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公开(公告)号：CN102043880B
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201010584384.8
申请日：2010-12-13
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明涉及厚膜电阻版图设计装置，包括输入装置、CPU、存储器和输出装置，其特征在于：存储器中设有：(1)厚膜电阻版图设计数据库；(2)参数输入模块，包括：a.端头导体材料选择模块；b.电阻浆料方阻选择模块；c.厚膜电阻宽度选择模块；d.厚膜电阻目标值选择模块；(3)功能运算模块，包括：a.N·L的理论值计算模块；b.N·L值查找模块；c.N·L值比较模块；d.电阻设计长度值输出模块。本发明的优点在于能迅速得出各种厚膜电阻设计尺寸，削除电阻端头效应影响，同时解决因N取值不同而导致设计偏差，使厚膜电路版图设计技术水平得到提高。本发明达到的效果是保证了厚膜电阻在实际加工时阻值一致性，使同样阻值电阻在不同导体端头搭接时的电阻阻值之间偏差小于5％。
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公开(公告)号：CN102129964B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201010584377.8
申请日：2010-12-13
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明涉及厚膜集成电路电阻端头效应曲线制作方法，包括如下步骤：a、在成膜基板上，分别印刷28条导带B，每两条相邻导带间距A分别为15mil、20mil、25mil、……70mil、75mil、80mil共十四种；b、成膜基板上分别印有电阻宽度40mil的厚膜电阻r1-r14；c、用万用表对成膜基板中的厚膜电阻进行阻值测量，并将测量阻值录入Excel表中，根据公式：电阻值R＝R□·N·(L/W)，得到N＝R/R□·(W/L)；d、利用Excel绘图功能，分别绘制出不同电阻宽度的电阻端头效应曲线图。本发明创造的优点在于：解决了厚膜浆料生产厂家只提供单一导体端头电阻设计曲线而导致电阻设计误差问题，使厚膜电路版图设计技术水平得到提高；保证了厚膜电阻在实际加工时阻值一致性，使同样阻值电阻在不同导体端头搭接时的电阻阻值之间偏差小于5％。
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公开(公告)号：CN102129964A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010584377.8
申请日：2010-12-13
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明涉及厚膜集成电路电阻端头效应曲线制作方法，包括如下步骤：a、在成膜基板上，分别印刷28条导带B，每两条相邻导带间距A分别为15mil、20mil、25mil、……70mil、75mil、80mil共十四种；b、成膜基板上分别印有电阻宽度40mil的厚膜电阻r1-r14；c、用万用表对成膜基板中的厚膜电阻进行阻值测量，并将测量阻值录入Excel表中，根据公式：电阻值R＝R□·N·(L/W)，得到N＝R/R□·(W/L)；d、利用Excel绘图功能，分别绘制出不同电阻宽度的电阻端头效应曲线图。本发明创造的优点在于：解决了厚膜浆料生产厂家只提供单一导体端头电阻设计曲线而导致电阻设计误差问题，使厚膜电路版图设计技术水平得到提高；保证了厚膜电阻在实际加工时阻值一致性，使同样阻值电阻在不同导体端头搭接时的电阻阻值之间偏差小于5％。
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公开(公告)号：CN102043880A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010584384.8
申请日：2010-12-13
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明涉及厚膜电阻版图设计装置，包括输入装置、CPU、存储器和输出装置，其特征在于：存储器中设有：(1)厚膜电阻版图设计数据库，(2)参数输入模块，包括：a、端头导体材料选择模块，；b、电阻浆料方阻选择模块；c、厚膜电阻宽度选择模块；d、厚膜电阻目标值选择模块；(3)功能运算模块，包括：a、N·L的理论值计算模块；b、N·L值查找模块；c、N·L值比较模块；d、电阻设计长度值输出模块。本发明创造的优点在于能迅速得出各种厚膜电阻设计尺寸，削除电阻端头效应影响，同时解决因N取值不同而导致设计偏差，使厚膜电路版图设计技术水平得到提高。本发明达到的效果是保证了厚膜电阻在实际加工时阻值一致性，使同样阻值电阻在不同导体端头搭接时的电阻阻值之间偏差小于5％。
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