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公开(公告)号：CN109457219B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN201811385704.X
申请日：2018-11-20
Applicant: 北京航玻新材料技术有限公司 , 中国建筑材料科学研究总院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种中低温太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法，特别是涉及一种辐射率低，太阳光谱吸收率α与红外辐射率ε(T)之比高的，基于金属及金属氮化物吸收的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。一种中低温太阳光谱选择性吸收涂层依次包括：基底层、红外反射层、吸收层、过渡层和减反层，吸收层包括第一吸收亚层和第二吸收亚层。本发明的一种中低温太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法至少具有下列特点：保证了涂层具有低红外辐射率，提高了涂层整体的吸收率，涂层选材在太阳光谱能量范围内均有吸收作用，有效降低了太阳光在吸收层表面的反射；有效降低了光线在涂层内部界面处的反射；有效提高了涂层整体的制备效率，提高了生产产能。
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公开(公告)号：CN106746721A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611127115.2
申请日：2016-12-09
Applicant: 北京航玻新材料技术有限公司
CPC classification number: C03C17/3452 , C03C17/3429 , C03C2218/151 , C03C2218/153 , C03C2218/156 , G06F3/041
Abstract: 本发明公开了一种硬质复合膜、触摸屏面板及其制备方法，其中硬质复合膜，沉积于基体表面，其中硬质复合膜由类金刚石薄膜和减反膜组成，所述基体的折射率小于所述类金刚石薄膜的折射率，所述基体包括相对的内表面和外表面，所述类金刚石薄膜沉积于基体的外表面一侧，所述减反膜沉积于所述基体的内表面和/或类金刚石薄膜与基体之间。本发明解决了类金刚石薄膜沉积于折射率小于其折射率的基体上的透过率问题。
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公开(公告)号：CN103214186B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310109007.2
申请日：2013-03-29
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
IPC: C03C17/22
Abstract: 本发明公开了一种玻璃基板及其制备方法，其中玻璃基板的表面沉积有一层透明、耐摩擦、抗划伤和硬质的类金刚石薄膜。本发明的玻璃基板具有高的可见光透射比与太阳光谱透射比，耐摩性较未镀膜玻璃基板大幅度提高。
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公开(公告)号：CN103910490B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201310003905.X
申请日：2013-01-07
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
IPC: C03C8/24
Abstract: 本发明公开了一种具有光谱选择性吸收特性的无铅封接玻璃粉及其制备方法，以无铅低温封接玻璃系统为基础组分，在所述基础组分中加有可使封接玻璃产生光谱选择性吸收特性的稀土氧化物和过渡金属氧化物。所述无铅封接玻璃中基础组分总量与所述稀土和过渡金属氧化物总量之间的重量分数比为100：0.1~20.0。按照本发明所述方法制备的无铅封接玻璃粉，具有光谱选择性吸收特性，适用于加热源为紫外、可见或红外光的光辐射加热封接工艺，可用于电真空器件、电子元器件或真空玻璃绝缘密封或气密性封接；同时，封接玻璃还具有封接温度低、化学稳定性好、膨胀系数适当，易于制备、可以实现连续化的大规模工业化生产等优点。
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公开(公告)号：CN104034072B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310074921.8
申请日：2013-03-08
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
CPC classification number: Y02E10/40
Abstract: 本发明提出一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用,该太阳光谱选择性吸收涂层依次包括：基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为外吸收层、中吸收层和内吸收层，所述内吸收层的材质为TiNx1Oy1，所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2，所述外吸收层的材质为TiNx3Oy3。所述吸收层的光学参数梯度渐变，实现了涂层对太阳光谱的高效吸收,较高的热稳定性以及低热辐射率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105398120A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510781174.0
申请日：2015-11-13
Applicant: 北京航玻新材料技术有限公司
CPC classification number: B32B9/04 , B32B2307/40 , B32B2457/208 , C03C17/3417 , C03C17/3435 , G02B1/116 , G06F3/041 , H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种消影增透透明薄膜、导电薄膜、导电玻璃及触摸屏，其中消影增透透明薄膜设于基板上，所述消影增透透明薄膜为至少一组复合膜层，其中每组复合膜层由高折射率光学介质膜层与SiO2膜层组成，每组复合膜层中的高折射率光学介质膜层靠近基板一侧，其特征在于，所述高折射率光学介质膜层的折射率为1.75-2.1。本发明提高消隐效果，并且降低了工艺制作的难度，同时扩展消影膜对高折射率材料的选择范围。
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公开(公告)号：CN105276846A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201410648672.3
申请日：2014-11-14
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
CPC classification number: Y02E10/40
Abstract: 本发明涉及太阳光选择性吸收涂层领域，尤其是一种吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：基底层清洗；采用镀膜方法在基底层上制备红外反射层；采用镀膜方法在红外反射层上制备吸收层；采用镀膜方法在吸收层上制备减反层；所述的吸收层自下而上依次包括金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层，所述金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层均采用镀膜方法依次制备。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层是由上述制备方法制备的。本发明公开的涂层制备工艺简单、镀膜设备所需条件要求低，适用于大规模低成本生产。
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公开(公告)号：CN103232171B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201310108950.1
申请日：2013-03-29
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
IPC: C03C17/22
Abstract: 本发明公开了一种触摸屏用玻璃盖板及其制备方法，其中触摸屏用玻璃盖板采用超薄玻璃先经过化学钢化再镀一层类金刚石薄膜而制成。本发明在保证高可视性的同时提高强度与耐划伤性，而无需消费者后续贴膜处理。
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公开(公告)号：CN105675511B
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201410670988.2
申请日：2014-11-20
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种透明介质膜层均匀性在线测量方法及其装置，该测量方法包括：获得各点膜面反射光谱；对各点膜面反射光谱进行光学性能分析；获得膜层折射率及膜层平均厚度；进行均匀性分析后得到膜层厚度均匀性分布结果。本发明还公开了一种在线光谱测量装置，包括支架，所述支架上设有导轨，所述导轨上设有测量探头，所述导轨一侧的支架上设有第一位置传感器，另一侧的支架上设有第二位置传感器，当第一位置传感器和第二位置传感器同时检测到被测镀膜样品时，所述测量探头在被测镀膜样品上方沿导轨步进运动逐点扫描测试，用于测试被测镀膜样品的各点膜面反射光谱。本发明能够同时获得膜层折射率及平均厚度，不受膜层种类影响，具有通用性能。
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公开(公告)号：CN105276846B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201410648672.3
申请日：2014-11-14
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院 , 北京航玻新材料技术有限公司
CPC classification number: Y02E10/40
Abstract: 本发明涉及太阳光选择性吸收涂层领域，尤其是一种吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：基底层清洗；采用镀膜方法在基底层上制备红外反射层；采用镀膜方法在红外反射层上制备吸收层；采用镀膜方法在吸收层上制备减反层；所述的吸收层自下而上依次包括金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层，所述金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层均采用镀膜方法依次制备。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层是由上述制备方法制备的。本发明公开的涂层制备工艺简单、镀膜设备所需条件要求低，适用于大规模低成本生产。
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