石墨烯材料的CVD制备装置及方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119710652A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411950132.0

    申请日:2024-12-27

    Abstract: 本发明提供一种石墨烯材料的CVD制备装置及方法,涉及石墨烯材料制备技术领域。该石墨烯材料的CVD制备装置包括反应腔、真空组件、进气组件、控压排气组件和加热组件,反应腔用于容纳基材;真空组件设置于所述反应腔并与所述反应腔连通,进气组件与反应腔一端连通,用于向反应腔通入反应气体;控压排气组件与反应腔另一端连通,用于将反应后的气体排出并保持反应腔内气体稳定流动;加热组件设置于反应腔的外壁,加热组件被配置为沿反应腔的轴向方向并相对于反应腔移动,用于加热基材,使基材表面生长石墨烯。加热组件从基材的一端移动至另一端,使加热器沿反应腔的轴向方向完全遍历了基材,实现石墨烯在基材上均匀生长。

    溶解气体存储装置及稳定输出气体的方法

    公开(公告)号:CN119572934A

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202411708807.0

    申请日:2024-11-26

    Abstract: 本发明提供一种溶解气体存储装置及稳定输出气体的方法,所述装置包括:气流控制单元、溶剂混合单元、溶剂分离单元、温度控制单元。所述方法包括步骤:S1:存入溶解气体:使用上述的装置,向装置中添加溶剂,控制温度,将装置进气管连接至溶解气体气瓶,打开进气调压阀调节压力至第一压力,静置8小时以上;S2:输出溶解气体:将装置出气管连接至待使用的设备,打开出气调压阀调节压力至第二压力,溶解气体气瓶内的气体流经本装置后流入待使用的设备。通过上述装置和方法,可以保证溶解气体安全存储和使用,并且使溶解气体存储装置输出气体中溶解气体比例保持稳定,避免随着气体输出,装置内腔压力减小造成输出气体中溶剂含量增大的问题。

    CVD方法和系统
    6.
    发明公开
    CVD方法和系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN118910593A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411045439.6

    申请日:2024-07-31

    Abstract: 本发明提出了一种CVD方法及系统。所述方法包括以下步骤:步骤(1):将衬底材料放置在CVD生长区,升温至第一温度,然后通入反应气体,所述反应气体由CVD生长区的一端流向另一端,开始CVD生长;步骤(2):经过静态生长时间后,将衬底材料以预设速度沿反应气体流动方向的反方向移出CVD生长区;步骤(3):将全部衬底材料移出CVD生长区,CVD生长结束。一种CVD系统,包括:放样腔:所述衬底材料从所述放样腔中进行放样;传动装置:所述传动装置将所述衬底材料送入或移出所述CVD生长区;进气装置和出气装置:所述进气装置和出气装置分别位于所述CVD生长区的两侧;CVD生长区:进行薄膜或涂层的CVD生长。使用本发明的方法和系统,相比静态工艺可以大幅改善产品表面的均匀性,相比动态工艺可以实现大幅宽衬底材料上的生长,并且极大地提高了生长效率。

    一种化学气相沉积装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113718235A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202010454127.6

    申请日:2020-05-26

    Abstract: 本发明提供了一种化学气相沉积装置,包括反应单元和承载面板;所述反应单元用于通过化学气相沉积反应在基底上生成薄膜;所述承载面板用于承载所述基底,并能够带着所述基底进出所述反应单元;其中,所述反应单元包括一个或多个反应室,在所述反应室内设置有保温腔,所述保温腔为两端开口的筒状体。本发明的一实施方式化学气相沉积装置,可实现石墨烯玻璃的连续生产。

    一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置及方法

    公开(公告)号:CN113718230A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202010454155.8

    申请日:2020-05-26

    Abstract: 本发明提供了一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置及方法,该装置包括反应单元、碳源进给单元和真空检控单元;其中,所述反应单元用于进行化学气相沉积反应,所述碳源进给单元用于为所述反应单元提供气态碳源,所述真空检控单元用于控制和检测所述反应单元的真空度;所述碳源进给单元包括雾化器和汽化器。本发明一实施方式的用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置,通过设计结构简单的碳源进给器,替代传统的注射泵法、鼓泡法和加热法,使得碳源的控制更加精确稳定,且降低了生产成本。

    管式炉测温装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114543544B

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202011294395.2

    申请日:2020-11-18

    Abstract: 本公开提供一种管式炉测温装置,包括铠装热电偶、传动组件及安装座,其中,铠装热电偶设有多个测温点,传动组件包括旋转杆和轴筒,其中,铠装热电偶的一端为测温探头,另一端连接于旋转杆,传动组件被配置为通过驱动旋转杆转动,带动铠装热电偶绕铰接点旋转,使测温探头进行径向温度测量;和/或,通过驱动轴筒沿轴向移动,以带动铠装热电偶沿轴向移动,使测温探头进行轴向温度测量。本公开的管式炉测温装置具有接线方式简易、成本低、测温准确等优势,能够实现对各种管径尺寸的管式炉内进行全区域温度场测温,具有良好的应用前景。

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