加热装置、CVD设备及方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119351993A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411463808.3

    申请日:2024-10-18

    Abstract: 本公开涉及化学气相沉积制备技术领域,尤其是涉及一种加热装置、CVD设备及方法。加热装置包括线圈组件、石墨盘和导热垫片,线圈组件包括线圈和供电装置,线圈用于设置在CVD设备的腔室的周向外表面,供电装置用于向线圈供电,以使腔室内产生磁场;石墨盘用于安装于腔室内,石墨盘能够产生热量;导热垫片位于石墨盘上,与石墨盘同轴设置,导热垫片的直径小于石墨盘的直径;导热垫片用于承托晶圆,晶圆的直径大于导热垫片的直径,晶圆包括第一区域和第二区域,第一区域能够与导热垫片直接接触,第二区域与石墨盘之间间隙设置。通过热传导和热辐射相结合的加热方式,提高了晶圆温度分布的均匀性,有利于提高二维材料薄膜的均匀性和质量。

    一种电导率测量装置
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221595124U

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202323241107.9

    申请日:2023-11-29

    Abstract: 本公开提供了一种电导率测量装置,涉及电导率测量领域。本公开通过测量仪器向4个测量端中的2个相邻的测量端输入电流,并测量另外2个测量端之间的电压;通过开关模块切换向不同的2个相邻测量端输入电流,并测量另外2个测量端的电压,从而在测量端位置不变且无需插拔测量仪器的测试线的情况下,实现电导率的测量。本公开既可以简化测量操作,又可以提高测量仪器的使用寿命,同时还可以提高测量的精度。

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