-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118209388A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410353078.5
申请日：2024-03-26
Applicant: 北京石墨烯研究院
Abstract: 本发明涉及一种提高箔材样品处理合格度的方法以及通过该方法处理所得的箔材样品，包括以下步骤：1)预处理：对模具进行打磨抛光处理；2)静电喷涂处理：将离型剂细粉喷涂在模具表面，形成涂层；3)真空热压处理：在模具上放置薄材样品，进行真空热压操作。热压完成后样品可以直接从模具上取下，不会粘连，热压得到的样品表面平整度高，可以实现样品热压后的直接测量工作。
-
公开(公告)号：CN222119386U
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202420784036.2
申请日：2024-04-15
Applicant: 北京石墨烯研究院 , 北京石墨烯研究院有限公司
IPC: C23C16/458 , C01B32/186 , B82Y40/00 , C23C16/26 , C23C16/01 , C23C16/50
Abstract: 本实用新型提供一种石墨烯制备载具及石墨烯制备装置，涉及石墨烯生产制造技术领域。该石墨烯制备载具包括底座、立柱和固定件，所述底座设置有第一固定结构；立柱垂直设置于所述底座；固定件连接于所述立柱远离所述底座的一侧并与所述底座平行正对设置，所述底座、所述立柱和所述固定件之间形成用于容纳生长衬底的空间，所述固定件设置有第二固定结构，所述第一固定结构用于固定生长衬底沿所述底座高度方向的第一端，所述第二固定结构用于固定所述生长衬底沿所述底座高度方向的第二端，实现生长衬底沿底座高度方向的第一端和第二端的固定，生长衬底可呈竖直状态，有效减轻或避免石墨烯薄膜因褶皱变形，提高石墨烯生长均匀性和成品合格率。
-
公开(公告)号：CN222114706U
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202420784063.X
申请日：2024-04-15
Applicant: 北京石墨烯研究院 , 北京石墨烯研究院有限公司
Abstract: 本公开涉及金相试样制备技术领域，尤其是涉及一种磨抛夹持装置及磨抛设备。磨抛夹持装置包括夹持部，夹持部具有至少两个相对设置的放置面，至少两个相对设置的放置面均设置有用于放置试样的凹槽，凹槽的槽底与放置面平行。由于夹持部具有至少两个相对设置的放置面，至少两个相对设置的放置面均设置有凹槽，可以根据需要进行选择。在使用时，可以将试样放置在凹槽内，然后向夹持部施加压力，使得试样远离凹槽槽底的表面与磨抛机的磨盘紧密接触，以对试样的一面进行磨抛，待一面磨抛完成后，再对试样的另一面进行磨抛，从而保证试样的表面平整度；同时，由于凹槽的槽底与放置面平行，这样可以保证磨抛后的试样的厚度均匀性。
-
公开(公告)号：CN222114705U
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202420778430.5
申请日：2024-04-15
Applicant: 北京石墨烯研究院 , 北京石墨烯研究院有限公司
Abstract: 本公开涉及金相试样制备技术领域，尤其是涉及一种磨抛夹持装置及磨抛设备。磨抛夹持装置包括安装部、放置架和压持部，安装部呈两端开口的中空结构，安装部的周向外表面为圆柱面，安装部用于放置在磨抛机的磨盘上，安装部能够绕其自身的轴线转动；放置架安装于安装部的内部，放置架设置有通孔，通孔用于放置试样；压持部安装于放置架的上方，压持部能够随安装部一起转动，压持部的下表面设置有凹槽，凹槽的形状与通孔的形状相同；凹槽的槽底能够与试样的上表面抵接，以使试样的下表面与磨盘紧密接触，从而能够增强对试样的固定效果，保证磨抛后的试样的表面平整度。
-
公开(公告)号：CN221595124U
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202323241107.9
申请日：2023-11-29
Applicant: 北京石墨烯研究院
IPC: G01R27/02
Abstract: 本公开提供了一种电导率测量装置，涉及电导率测量领域。本公开通过测量仪器向4个测量端中的2个相邻的测量端输入电流，并测量另外2个测量端之间的电压；通过开关模块切换向不同的2个相邻测量端输入电流，并测量另外2个测量端的电压，从而在测量端位置不变且无需插拔测量仪器的测试线的情况下，实现电导率的测量。本公开既可以简化测量操作，又可以提高测量仪器的使用寿命，同时还可以提高测量的精度。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.021 seconds)
