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公开(公告)号：CN102520334A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110429657.6
申请日：2011-12-20
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS工艺的光纤阵列动态红外场景生成装置，属于动态红外场景生成技术领域；本方法能够实现可见光图像到红外图像的转换，达到大幅度提高动态红外图像生成装置的性能指标并降低成本的目的；该装置包括衬底、由像素立柱构成的光纤阵列和像素立柱顶端的可见光吸收红外辐射层。衬底的材料根据设计光路不同可以采用透明玻璃或者硅；光纤阵列是利用MEMS工艺在衬底上制作而成，构成光纤阵列的每个像素立柱相互独立，作为一个成像像元；可见光吸收红外辐射膜制作在每个像素立柱的顶端，可见光吸收红外辐射膜吸收入射来的可见光图像的能量，温度升高后向外辐射红外光，产生与可见光图像对应的红外图像。
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公开(公告)号：CN102495450A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110429418.0
申请日：2011-12-20
Abstract: 本发明涉及一种光纤阵列动态红外场景生成装置的制作方法，属于动态红外场景生成技术领域。本方法利用MEMS工艺在硅片或者玻璃片上制作光纤阵列，同时在光纤阵列顶端制作可见光吸收红外辐射层，该方法的操作步骤包括：衬底的选择和清洗，光纤阵列刻蚀基础层制作，可见光吸收红外辐射层制作，金属刻蚀掩膜层制作，光刻刻蚀图形，金属掩膜层图形制作，清除金属掩膜板图形间距处可见光吸收红外辐射层材料，光纤阵列刻蚀基础层刻蚀，去除残留金属掩膜层以及装置制作的收尾步骤。本发明方法操作简单，制作工艺成熟，设计参数制作精确，具有很好的应用前景。
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公开(公告)号：CN102495450B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201110429418.0
申请日：2011-12-20
Abstract: 本发明涉及一种光纤阵列动态红外场景生成装置的制作方法，属于动态红外场景生成技术领域。本方法利用MEMS工艺在硅片或者玻璃片上制作光纤阵列，同时在光纤阵列顶端制作可见光吸收红外辐射层，该方法的操作步骤包括：衬底的选择和清洗，光纤阵列刻蚀基础层制作，可见光吸收红外辐射层制作，金属刻蚀掩膜层制作，光刻刻蚀图形，金属掩膜层图形制作，清除金属掩膜板图形间距处可见光吸收红外辐射层材料，光纤阵列刻蚀基础层刻蚀，去除残留金属掩膜层以及装置制作的收尾步骤。本发明方法操作简单，制作工艺成熟，设计参数制作精确，具有很好的应用前景。
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