一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微镜侧壁加工方法

    公开(公告)号:CN112735936A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202110005187.4

    申请日:2021-01-04

    Abstract: 本发明涉及一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微镜侧壁加工方法。包括以下步骤:首先,利用电感耦合等离子体(ICP)技术对光开关加工,得到光开关样品;然后,利用聚焦离子束(FIB)技术对样品侧壁反射镜镜面二次刻蚀加工,具体有以下步骤:样品固定步骤,在聚焦离子束和电子束的双束系统中,将待加工样品固定在样品台上;加工参数选择步骤,选择合适的待加工区域和摸底实验区域,然后对摸底实验区域模拟加工,确定合适的加工参数;加工步骤,利用聚焦离子束对反射镜镜面刻蚀。基于电感耦合等离子体技术和聚焦离子束技术相结合的加工方法可以有效改善镜面的粗糙度,提高光路的传输效率。

    一种具有解保与驱动双功能的形状记忆合金MEMS安全系统

    公开(公告)号:CN113916073B

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202111369640.6

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明公开一种具有解保与驱动双功能的形状记忆合金MEMS安全系统,主要由后坐保险机构、隔爆滑块和形状记忆合金执行器组成,隔爆滑块上设计有后坐保险机构保险槽、形状记忆合金执行器保险槽、定位槽和驱动槽,形状记忆合金执行器分为保险机构和驱动机构。利用后坐保险机构卡入保险槽实现对隔爆滑块的第一道保险,利用形状记忆合金保险机构卡入保险槽实现对隔爆滑块的第二道保险,利用形状记忆合金驱动机构推动隔爆滑块运动到位。本发明要解决的技术问题为:实现小口径弹药微小型化和远距离安全解除保险的目标,具有以下优点:(1)结构尺寸小;(2)抗过载能力强;(4)低成本;(5)原理简单、作用速度快;(6)稳定性好,工作可靠。

    一种具有解保与驱动双功能的形状记忆合金MEMS安全系统

    公开(公告)号:CN113916073A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111369640.6

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明公开一种具有解保与驱动双功能的形状记忆合金MEMS安全系统,主要由后坐保险机构、隔爆滑块和形状记忆合金执行器组成,隔爆滑块上设计有后坐保险机构保险槽、形状记忆合金执行器保险槽、定位槽和驱动槽,形状记忆合金执行器分为保险机构和驱动机构。利用后坐保险机构卡入保险槽实现对隔爆滑块的第一道保险,利用形状记忆合金保险机构卡入保险槽实现对隔爆滑块的第二道保险,利用形状记忆合金驱动机构推动隔爆滑块运动到位。本发明要解决的技术问题为:实现小口径弹药微小型化和远距离安全解除保险的目标,具有以下优点:(1)结构尺寸小;(2)抗过载能力强;(4)低成本;(5)原理简单、作用速度快;(6)稳定性好,工作可靠。

    一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法

    公开(公告)号:CN113204079B

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202110511479.5

    申请日:2021-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法。包括以下内容:MOEMS光开关由器件层(包括输入光纤、输出光纤、可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构)、埋氧层和衬底层组成。衬底层被设计成镂空的网格状结构,在不影响器件层可动式微镜运动的前提下为器件层提供一种限位止挡结构,当MOEMS光开关受到垂直于器件层表面的高过载冲击时,衬底层的网格状结构可以限制可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构该方向上的运动,防止其因为变形过大而发生断裂,对器件层起到了限位保护作用。本发明要解决的技术问题为:提高MOEMS光开关的抗高过载能力,具有以下优点:(1)抗过载能力强;(2)结构尺寸小;(3)工作稳定、可靠性好。

    电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微光开关加工方法

    公开(公告)号:CN112735936B

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202110005187.4

    申请日:2021-01-04

    Abstract: 本发明涉及一种电感耦合等离子体和聚焦离子束刻蚀的微光开关加工方法。包括两个方面:首先,利用基于电感耦合等离子体(ICP)技术的双面ICP刻蚀工艺加工SOI晶圆得到反射镜表面粗糙度较大的微光开关;然后,利用基于聚焦离子束技术的加工工艺刻蚀微光开关反射镜表面,完成对反射镜表面的微细加工。基于电感耦合等离子体技术加工微光开关和聚焦离子束刻蚀微光开关反射镜表面相结合的工艺可以有效改善微光开关反射镜表面的粗糙度,提高光路的传输效率。

    一种基于形状记忆合金的MEMS安全系统

    公开(公告)号:CN114812302A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202111457036.9

    申请日:2021-12-02

    Abstract: 本发明公开一种基于形状记忆合金的MEMS安全系统,主要由形状记忆合金拔销器、隔爆滑块、后坐保险机构和闭锁机构等部分组成。利用后坐保险机构实现对隔爆滑块的第一道保险,利用形状记忆合金拔销器实现对隔爆滑块的第二道保险,利用离心力推动隔爆滑块运动到位、闭锁机构对隔爆滑块实现位置锁定完成解保动作。本发明要解决的技术问题为:解决小口径弹药引信安全系统在高动态环境中的安全性与可靠性问题,满足小口径弹药引信微小型化、通用化和高可靠性的军事需求。具有以下优点:(1)结构尺寸小;(2)作用可靠;(3)制造成本低;(4)应用范围广。

    一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法

    公开(公告)号:CN113204079A

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202110511479.5

    申请日:2021-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法。包括以下内容:该光开关结构包含器件层(1)(包括输入光纤、输出光纤、可动式微镜、电热保险机构、电热驱动机构)、埋氧层(2)、衬底层(3),其特征在于:将光开关的衬底层设计成镂空的网格形状,光开关结构中器件层的可动式微镜与衬底层之间有0.5μm的微小间隙,当光开关受到垂直器件层上表面的高过载冲击时,衬底层的抗过载网格可以有效的避免形变应力的集中、同时最大程度的减少受到的最大形变应力,有效保护器件层不会因高过载而发生变形,从而避免光开关结构的损坏。本发明对MOEMS光开关装置进行了结构优化设计,提高了光开关的抗高过载性能,推动了光开关在引信全电子安全系统中的运用。

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