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公开(公告)号:CN114536219A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202210206133.9
申请日:2022-02-28
Applicant: 北京烁科精微电子装备有限公司
IPC: B24B53/017
Abstract: 本发明提供的一种用于抛光头的清洗装置,包括:清洗基座具有轴向贯通的第一流道;第一清洗臂成型于清洗基座上,第一清洗臂具有轴向贯通的第二流道,第二流道与第一流道垂直且连通;第一清洗臂的两轴端处均成型有第二清洗臂,第二清洗臂具有轴向设置的第三流道;第三流道的一端与第二流道连通,第三流道的另一端封堵;第三流道与第二流道的夹角不小于90°,第三流道朝向背离清洗基座的方向向上延伸;第一清洗臂的背离清洗基座的一侧上设有第一喷洗头,第二清洗臂的背离清洗基座的一侧上设有第二喷洗头。本发明的清洗基座、第一清洗臂以及第二清洗臂为一体式设计,各部件之间不存在螺钉连接或者粘接,且相互衔接处不存在缝隙。
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公开(公告)号:CN115256218A
公开(公告)日:2022-11-01
申请号:CN202210701556.8
申请日:2022-06-20
Applicant: 北京烁科精微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供的一种用于抛光头的气控装置及其抛光设备,属于抛光技术领域,气控装置包括:箱体;气控模块,具有集成在箱体腔室内的多个,气控模块上具有氮气接头以及多组进/出气接头,气控模块用于控制气体的压力参数;转接板,连接在箱体上,转接板上具有用于与氮气接头以及进/出气接头连通的转接头。本发明将分散的气控模块汇聚至一个箱体内,电气系统走线经转接板进行排布后、集中至箱体内,在转接板上可以清晰区分各走线去向,避免走线混乱以影响后续的维护,且便于单人独立完成调试读取数据;当该气控装置置于抛光头上方时,较分散的气控模块而言,能够节省抛光头上部的空间,有助于压缩整体设备的体积、使设备结构更加紧凑。
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