-
公开(公告)号：CN115947648B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202211695370.2
申请日：2022-12-28
Applicant: 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶，属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂，其中，溶质包括70wt％～95wt％碱溶性树脂、1wt％～30wt％光致产酸剂、0.1wt％～15wt％酸淬灭剂和5wt％～20wt％上述的交联剂，第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍～10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中，并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀，减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷，得到的图形线条边缘更加垂直，且窗口更大。
-
公开(公告)号：CN114136910B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202111474323.0
申请日：2021-12-02
Applicant: 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程化学(中国)有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC: G01N21/35 , G01N21/3563
Abstract: 本申请涉及光刻胶树脂技术领域，提供了一种测试丙烯酸叔丁酯与对羟基苯乙烯共聚物中重复单元的摩尔分数的方法，通过获得已知两种重复单元的摩尔比的丙烯酸叔丁酯与对羟基苯乙烯共聚物样品中羰基的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值，建立得到标准曲线的回归方程；将待测样品中羰基的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值代入上述回归方程，即可计算得到待测样品中两种重复单元的摩尔比，进而换算得到待测样品中重复单元的摩尔分数。该方法能够准确获得丙烯酸叔丁酯与对羟基苯乙烯共聚物待测样品中重复单元的摩尔分数，且不需要使用毒性较大的良溶剂，具有简便、分析速度快、准确度高、误差小、检测成本低、安全环保等优势。
-
公开(公告)号：CN114414711A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111647566.X
申请日：2021-12-29
Applicant: 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及光刻胶分析技术领域，具体涉及一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法，包括以下步骤：S1、光刻胶的预处理：向待测光刻胶样品中加入提取液，直至光刻胶样品中有沉淀物析出，去除沉淀物，得到待测清液；S2、待测清液的GC‑MS分析检测：待测清液采用气相色谱质谱联用仪进行检测，得到GC‑MS总离子流色谱图；S3、鎓盐类光致产酸剂的鉴定：在GC‑MS总离子流色谱图中分别提取m/z=186、262、431、281、393的特征离子碎片峰；通过比对提取离子色谱图中各组分的保留时间和质谱图，鉴别鎓盐类光致产酸剂。本申请采用GC‑MS方法对鎓盐光致产酸剂进行鉴定，满足微量分析，鉴定精准、判断快速。
-
公开(公告)号：CN114136908A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111459965.3
申请日：2021-12-02
Applicant: 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程化学(中国)有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC: G01N21/35 , G01N21/3563
Abstract: 本申请涉及光刻胶树脂技术领域，提供了一种测试缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂保护率的方法，通过获得已知保护率缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂样品中醚键的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值，建立得到标准曲线的回归方程；将缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂待测样品中醚键的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值代入上述回归方程，即可计算得到待测样品的保护率；该方法能够准确获得缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂待测样品的保护率，且不需要使用毒性较大的良溶剂，具有简便、分析速度快、准确度高、误差小、检测成本低、安全环保等优势。
-
公开(公告)号：CN113504289A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202110732386.5
申请日：2021-06-29
Applicant: 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程化学(中国)有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种含醌二叠氮基化合物样品中酚类骨架的鉴定方法，涉及化合物分析的领域，其包括以下步骤：在醇的存在下，使待测样品与强碱试剂发生水解反应，得到包含目标产物的混合溶液；对混合溶液进行除水处理，随后加入有机溶剂并过滤，得到包含目标产物的上清液；取包含目标产物的上清液进行场解吸质谱系统测试，得到质谱图；所述待测样品含有含醌二叠氮基化合物、含醌二叠氮基化合物的曝光后产物中的一种或多种。本申请具有能够检出并鉴别出感光剂的效果。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114136908B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202111459965.3
申请日：2021-12-02
Applicant: 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程化学(中国)有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC: G01N21/35 , G01N21/3563
Abstract: 本申请涉及光刻胶树脂技术领域，提供了一种测试缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂保护率的方法，通过获得已知保护率缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂样品中醚键的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值，建立得到标准曲线的回归方程；将缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂待测样品中醚键的特征峰高度和苯环对位取代基的特征峰高度的比值代入上述回归方程，即可计算得到待测样品的保护率；该方法能够准确获得缩醛部分保护的聚对羟基苯乙烯树脂待测样品的保护率，且不需要使用毒性较大的良溶剂，具有简便、分析速度快、准确度高、误差小、检测成本低、安全环保等优势。
-
公开(公告)号：CN114414711B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202111647566.X
申请日：2021-12-29
Applicant: 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及光刻胶分析技术领域，具体涉及一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法，包括以下步骤：S1、光刻胶的预处理：向待测光刻胶样品中加入提取液，直至光刻胶样品中有沉淀物析出，去除沉淀物，得到待测清液；S2、待测清液的GC‑MS分析检测：待测清液采用气相色谱质谱联用仪进行检测，得到GC‑MS总离子流色谱图；S3、鎓盐类光致产酸剂的鉴定：在GC‑MS总离子流色谱图中分别提取m/z=186、262、431、281、393的特征离子碎片峰；通过比对提取离子色谱图中各组分的保留时间和质谱图，鉴别鎓盐类光致产酸剂。本申请采用GC‑MS方法对鎓盐光致产酸剂进行鉴定，满足微量分析，鉴定精准、判断快速。
-
公开(公告)号：CN116223653A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211673620.2
申请日：2022-12-26
Applicant: 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及分析化学的技术领域，具体公开了一种光刻胶中重氮萘醌类感光剂含量的测定方法。本申请公开的测定方法，具体包括以下步骤：利用有机溶剂将待测样品和重氮萘醌类感光剂标准品进行稀释，过滤，获得待测样品溶液和标准溶液；利用高效液相色谱仪测试所述待测样品溶液和所述标准溶液，计算得到所述待测样品中重氮萘醌类感光剂的含量。本申请提供的测定方法操作简单，检测效率高，且该测定方法具有线性良好、实验重复性好、测定结果精确度较高和准确度较高的优点。
-
公开(公告)号：CN114252537A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111647501.5
申请日：2021-12-29
Applicant: 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及光刻胶分析技术领域，具体公开了一种光刻胶中重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定方法包括：S1、从待测的光刻胶样品中提取含有光致产酸剂的待测清液；待测清液经过GC‑MS分析检测，得到GC‑MS总离子流色谱图；S2、重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定：在GC‑MS总离子流色谱图中提取特征离子碎片；通过逐一比对含有特征离子碎片的特征组分的保留时间和质谱图，鉴别特征离子碎片的峰是否为特征组分的信号峰；特征组分结构式如式I所示，m为1或2；R1和R2各自独立地选自直链或支链烷基、环烷基、芳基、酰基。本申请使用特征离子碎片的提取、以及保留时间和质谱图的双对比识别方法，从而使本申请获得了鉴定精准、判断快速的效果。
-
公开(公告)号：CN113804867A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202111138814.8
申请日：2021-09-27
Applicant: 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程化学(中国)有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC: G01N33/44
Abstract: 本申请提供了一种测试光刻胶树脂组分的方法，通过获得光刻胶树脂中保护基团R的结构及分子量，采用凝胶渗透色谱获得光刻胶树脂经衍生化处理前后的重均分子量，并经本申请的公式计算，获得光刻胶树脂中保护基团R的保护率，进而获得光刻胶树脂中各单体的组分；所述方法能够准确获得光刻胶树脂中各单体的组分，为确定光刻胶树脂的性能提供了理论依据，且所述方法具有简便、灵敏度高、分析速度快、准确率高、误差小等优势。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
66
records
(took 0.087 seconds)
