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公开(公告)号：CN109093454B
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201811194808.2
申请日：2018-10-15
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种硅晶圆减薄亚表面损伤深度快速评估方法，属于半导体晶圆材料超精密加工领域。该方法包括确定晶圆磨削参数，计算单颗磨粒切削深度的建立，建立亚表面损伤深度与切削深度的关系，将单颗磨粒切削深度代入亚表面损伤深度与切削深度关系，得到磨削参数与亚表面损伤深度的关系，亚表面损伤深度快速评估。利用本发明提供的亚表面损伤深度快速评估方法，可以在磨削设计阶段针对不同磨削参数(磨轮目数、主轴进给速率、主轴转速、晶圆转速)硅晶圆亚表面损伤深度进行预测，提高晶圆磨削质量，降低晶圆磨削成本。
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公开(公告)号：CN109093454A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201811194808.2
申请日：2018-10-15
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明提供了一种硅晶圆减薄亚表面损伤深度快速评估方法，属于半导体晶圆材料超精密加工领域。该方法包括确定晶圆磨削参数，计算单颗磨粒切削深度的建立，建立亚表面损伤深度与切削深度的关系，将单颗磨粒切削深度代入亚表面损伤深度与切削深度关系，得到磨削参数与亚表面损伤深度的关系，亚表面损伤深度快速评估。利用本发明提供的亚表面损伤深度快速评估方法，可以在磨削设计阶段针对不同磨削参数(磨轮目数、主轴进给速率、主轴转速、晶圆转速)硅晶圆亚表面损伤深度进行预测，提高晶圆磨削质量，降低晶圆磨削成本。
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公开(公告)号：CN109333360A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811194797.8
申请日：2018-10-15
Applicant: 北京工业大学
IPC: B24B49/00
Abstract: 本发明提供了一种晶圆减薄磨削力在线测量装置及方法，属于半导体晶圆材料超精密加工领域。该磨削力测量装置包括半导体晶圆、工作台、承载台、薄膜压力传感器、数据处理与无线传输模块。磨削力的测试方法包含基于测试装置的传感器标定与磨削力在线测量。利用本发明提供的磨削力测量装置及方法，可以实时监测半导体晶圆磨削过程中的磨削力，对半导体的加工，降低磨削损伤具有重要意义。本发明具有如下特点：传感器采用薄膜压力传感器，响应时间短，测试精度高；数据的传输采用无线传输设计，能够在晶圆和主轴旋转过程中对磨削力进行实时监测，避免晶圆旋转绕线的风险；传感器采用分布式设计，能够监测磨削力沿晶圆径向，晶向的分布。
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公开(公告)号：CN111613566A
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN202010472464.8
申请日：2020-05-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供了一种超薄晶圆转运装置，涉及半导体制造设备技术领域。该晶圆转运装置包括负压转运托盘和负压发生装置两部分。其特征在于：所述负压转运托盘和负压发生装置通过气压阀和压力枪活动接触方式连接，可分离。利用本发明提供的超薄晶圆转运装置和方法，可以实现超薄晶圆的加工、转运和晶圆级封装过程，对提高超薄晶圆的可制造性、降低晶圆加工损伤有重要意义。本发明具有如下特点：晶圆与转运托盘结合与分离采用真空吸附设计，实施方便，可重复利用，节约成本。负压转运托盘厚度较小，可应用于晶圆加工、转运和晶圆级封装过程，可有效提高超薄晶圆的可制造性。
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公开(公告)号：CN109333360B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201811194797.8
申请日：2018-10-15
Applicant: 北京工业大学
IPC: B24B49/00
Abstract: 本发明提供了一种晶圆减薄磨削力在线测量装置及方法，属于半导体晶圆材料超精密加工领域。该磨削力测量装置包括半导体晶圆、工作台、承载台、薄膜压力传感器、数据处理与无线传输模块。磨削力的测试方法包含基于测试装置的传感器标定与磨削力在线测量。利用本发明提供的磨削力测量装置及方法，可以实时监测半导体晶圆磨削过程中的磨削力，对半导体的加工，降低磨削损伤具有重要意义。本发明具有如下特点：传感器采用薄膜压力传感器，响应时间短，测试精度高；数据的传输采用无线传输设计，能够在晶圆和主轴旋转过程中对磨削力进行实时监测，避免晶圆旋转绕线的风险；传感器采用分布式设计，能够监测磨削力沿晶圆径向，晶向的分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109326620A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201811181878.4
申请日：2018-10-11
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L27/146
Abstract: 本发明公开了一种影像传感芯片的嵌入式封装结构和制作方法。本发明通过将影像传感芯片以功能面向上的方式嵌入带有凹槽的基板中，芯片非功能面和基板凹槽的底部键合，再将玻璃盖板与基板键合，然后在基板第二表面与影像传感芯片非功能面设置暴露影像传感芯片功能面焊垫的开口，并在开口内形成延伸到基板背面的导电线路，将焊垫电性引到基板背面。该封装结构不需要聚合物围堰，缓解了结构的热失配，可靠性高，且减小了功能区污染的概率，提供了更大的布球空间。
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公开(公告)号：CN111627947A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010472471.8
申请日：2020-05-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L27/146
Abstract: 本发明提供了一种CIS芯片的扇出型封装制作方法，该方法利用玻璃基体的透光特性，将CIS芯片倒置嵌入到带槽的玻璃基体中，对CIS芯片的正面和侧面进行包封，然后通过TSV工艺将导电结构引到包封侧壁玻璃基体上，实现扇出封装。本发明先将CIS芯片倒置嵌入玻璃基板上再进行面板级封装，增加了封装的可操作性，封装工艺过程简单，可靠性高。面板级封装的过程结合了晶圆级封装金属布线线宽，线间距小、精度高的优势和面板级封装倍增的封装数量，明显提高了封装质量和效率，大大降低了封装成本。
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公开(公告)号：CN109473402A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811181876.5
申请日：2018-10-11
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L23/31 , H01L23/498 , H01L27/146
Abstract: 本发明公开了一种影像芯片的封装结构和制作方法，属于半导体封装领域。本发明通过在影像芯片的非功能面正对感光区的位置和芯片侧壁分别制作吸光层，可以有效抑制光线通过影像芯片非功能面和侧壁射入芯片器件层的光电二极管，减少入射到感光区的干扰光线，提高了成像的质量。
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公开(公告)号：CN111627947B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202010472471.8
申请日：2020-05-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L27/146
Abstract: 本发明提供了一种CIS芯片的扇出型封装制作方法，该方法利用玻璃基体的透光特性，将CIS芯片倒置嵌入到带槽的玻璃基体中，对CIS芯片的正面和侧面进行包封，然后通过TSV工艺将导电结构引到包封侧壁玻璃基体上，实现扇出封装。本发明先将CIS芯片倒置嵌入玻璃基板上再进行面板级封装，增加了封装的可操作性，封装工艺过程简单，可靠性高。面板级封装的过程结合了晶圆级封装金属布线线宽，线间距小、精度高的优势和面板级封装倍增的封装数量，明显提高了封装质量和效率，大大降低了封装成本。
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公开(公告)号：CN111613566B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202010472464.8
申请日：2020-05-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供了一种超薄晶圆转运装置，涉及半导体制造设备技术领域。该晶圆转运装置包括负压转运托盘和负压发生装置两部分。其特征在于：所述负压转运托盘和负压发生装置通过气压阀和压力枪活动接触方式连接，可分离。利用本发明提供的超薄晶圆转运装置和方法，可以实现超薄晶圆的加工、转运和晶圆级封装过程，对提高超薄晶圆的可制造性、降低晶圆加工损伤有重要意义。本发明具有如下特点：晶圆与转运托盘结合与分离采用真空吸附设计，实施方便，可重复利用，节约成本。负压转运托盘厚度较小，可应用于晶圆加工、转运和晶圆级封装过程，可有效提高超薄晶圆的可制造性。
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