一种利用Ga2O3薄膜催化降解有机污染物的装置

    公开(公告)号:CN109529800A

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201811538246.9

    申请日:2018-12-16

    Abstract: 一种利用Ga2O3薄膜催化降解有机污染物的装置,属于半导体材料光催化降解有机污染物领域。在容器中设置卡槽,将沉积了一层Ga2O3薄膜材料的石英基片卡在卡槽中,以便重复利用Ga2O3薄膜催化降解有机污染物。采用石英片作为Ga2O3薄膜生长的基片,对石英基片进行超声清洗;采用射频磁控溅射设备在石英基片上沉积一层Ga2O3薄膜材料;采用管式炉对Ga2O3薄膜材料进行退火处理;将附着Ga2O3薄膜的石英片放入容器卡槽中,在紫外光照下进行有机污染物降解。本发明采用磁控溅射法在石英基片上沉积一层纳米尺寸的Ga2O3薄膜,在容器中设置卡槽完成对石英基片的固定,实现了对Ga2O3材料的重复利用。

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