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公开(公告)号:CN107195527A
公开(公告)日:2017-09-22
申请号:CN201710328732.7
申请日:2017-05-11
Applicant: 北京大学
CPC classification number: H01J49/10 , H01J49/147
Abstract: 本发明公开了一种提高ECR离子源中氢分子离子比例系统及其方法。本发明采用放电室内衬套装在放电室内,放电室内衬的材料采用高复合系数材料,其中钽材料为首次在该类型的离子源中作为内衬使用来提高H2+离子比例;通过进气口向放电室中通入纯氢气;微波系统将微波通过微波窗传输至放电室内;磁体提供轴向共振场;微波与放电室中的氢气作用产生等离子体,同时,氢原子在放电室内衬的高复合系数材料表面发生复合作用,形成大量氢分子,使得放电室内的氢分子含量升高,等离子体中氢原子含量减少,从而使得H+比例降低,H2+离子比例升高;H2+离子流强可以达到40mA,H2+离子的比例可以达到50%;系统运行的稳定性高,寿命长。
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公开(公告)号:CN103956314A
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:CN201410183645.3
申请日:2014-05-04
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/08
Abstract: 本发明提供了一种负氢离子源,尤其是一种采用2.45GHz微波驱动和全永磁结构的无铯的强流微波驱动负氢(H-)离子源。本发明采用了2.45GHz微波来产生等离子体;离子源磁场全部由永磁体产生;H-产生区域采用了钽材料的肩结构;H-产生区域采用了小孔径和横向偏转磁场。通过2.45GHz微波放电产生了大量的激发态氢分子(H2*),适当的横向磁场使得高能电子无法进入H-产生区域,通过的低能电子在H-产生区域与H2*相互作用产生H-。钽材料的肩结构增加了在其表面产生H-的几率。H-产生区域的孔径较小阻止了微波加热该区域的电子,该区域的横向磁场偏转掉引出束流中的电子,使得最终得到流强高、电子比例低的H-离子束流。该负氢离子源主要用于为加速器提供负氢离子。
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公开(公告)号:CN106898548A
公开(公告)日:2017-06-27
申请号:CN201510961977.4
申请日:2015-12-21
Applicant: 北京大学
IPC: H01L21/268 , H01L21/22
CPC classification number: H01L21/268 , H01L21/22
Abstract: 本发明公开了一种室温环境下激励硅中金属原子扩散的方法。在室温环境中对硅材料或硅器件进行质子辐照,激励金属原子在硅中扩散。该方法简便快捷、成本低廉,受二次污染的程度远较高温处理方法为小,在硅中金属的吸杂和掺杂领域都有潜在的应用前景。并且,由于不需高温,该方法不仅能应用于硅材料,还适用于大规模集成电路、太阳能电池、光电探测器等硅器件中金属的原子扩散。
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公开(公告)号:CN107195527B
公开(公告)日:2018-10-16
申请号:CN201710328732.7
申请日:2017-05-11
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种提高ECR离子源中氢分子离子比例系统及其方法。本发明采用放电室内衬套装在放电室内,放电室内衬的材料采用高复合系数材料,其中钽材料为首次在该类型的离子源中作为内衬使用来提高H2+离子比例;通过进气口向放电室中通入纯氢气;微波系统将微波通过微波窗传输至放电室内;磁体提供轴向共振场;微波与放电室中的氢气作用产生等离子体,同时,氢原子在放电室内衬的高复合系数材料表面发生复合作用,形成大量氢分子,使得放电室内的氢分子含量升高,等离子体中氢原子含量减少,从而使得H+比例降低,H2+离子比例升高;H2+离子流强可以达到40mA,H2+离子的比例可以达到50%;系统运行的稳定性高,寿命长。
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公开(公告)号:CN103956314B
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201410183645.3
申请日:2014-05-04
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/08
Abstract: 本发明提供了一种负氢离子源,尤其是一种采用2.45GHz微波驱动和全永磁结构的无铯的强流微波驱动负氢(H-)离子源。本发明采用了2.45GHz微波来产生等离子体;离子源磁场全部由永磁体产生;H-产生区域采用了钽材料的肩结构;H-产生区域采用了小孔径和横向偏转磁场。通过2.45GHz微波放电产生了大量的激发态氢分子(H2*),适当的横向磁场使得高能电子无法进入H-产生区域,通过的低能电子在H-产生区域与H2*相互作用产生H-。钽材料的肩结构增加了在其表面产生H-的几率。H-产生区域的孔径较小阻止了微波加热该区域的电子,该区域的横向磁场偏转掉引出束流中的电子,使得最终得到流强高、电子比例低的H-离子束流。该负氢离子源主要用于为加速器提供负氢离子。
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