一种锆基吸气剂薄膜制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116219383A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202211721674.1

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种锆基吸气剂薄膜制备方法,涉及表面工程技术领域,将锆基合金靶材溅射沉积在MEMS器件的内壁上形成锆基吸气剂薄膜,在真空封装过程中锆基吸气剂薄膜被激活,达到维持MEMS器件真空运行环境的目的。本发明的技术方案包括以下步骤:采用化学清洗剂对真空封装的基片表面进行超声清洗后,采用干燥气体对基片吹尖处理。将基片放置在真空室内工件托盘上,抽真空至一定真空度,工件托盘加热至一定温度,对基片进行真空除气处理。向真空室内通入惰性气体,打开偏压电源,同时打开离子源,对基片进行离子束活化;向真空室内通入惰性气体,打开锆Zr或钛Ti靶,在基片表面镀锆Zr或钛Ti过渡层。打开锆钴ZrCo合金靶,在过渡层上镀锆钴ZrCo合金薄膜。

    一种高可靠沿面击穿放电触发式脉冲引弧电源

    公开(公告)号:CN111146967A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911353705.0

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种沿面击穿放电触发式脉冲引弧电源,并设计了触发式脉冲引弧电源包括整流电路、电容充放电电路和触发控制电路三部分;当电弧主电源的输出电压高于空载输出电压的75%,或输出电流低于30A时,触发控制电路判定阴极电弧源处于熄弧状态,并触发脉冲信号,整流电路同步将交流电220V转换成直流电360V,并开始对电容充电,当充电电压达到360V,光晶闸管VS1自行关断,光晶闸管VS1可靠关断2ms后,触发控制电路给光晶闸管VS2发出一个导通触发脉冲信号,电容的电压通过光晶闸管VS2施加到阴极电弧源的陶瓷触发极上,为陶瓷表面的沿面击穿提供脉冲放电电压。

    一种空间活动零部件表面智能复合润滑薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109930120A

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201811565806.X

    申请日:2018-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种空间活动零部件表面智能复合润滑薄膜及其制备方法,属于空间活动零部件表面处理和真空技术领域。所述薄膜的底层为磁控溅射沉积在空间活动零部件表面的Ti层,Ti层之上为磁控溅射沉积的Ti含量逐渐减少、Ag和Mo含量逐渐增加的成分呈梯度变化的Ti/Ag/Mo过渡层,Ti/Ag/Mo过渡层之上为磁控溅射复合磁过滤电弧离子镀沉积的Ag/Mo/DLC/WS2智能复合润滑层。所述薄膜将多种环境中分别具有优异润滑性能的润滑相结合到同一薄膜体系中,根据周围环境的变化,所述薄膜调整自身表面化学状态以获得较好的摩擦学性能,具备环境自适应能力。

    一种用于圆形靶阴极杆密封的双层密封结构

    公开(公告)号:CN115899259A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211462371.2

    申请日:2022-11-17

    Abstract: 本申请公开了一种用于圆形靶阴极杆密封的双层密封结构,包括阴极杆保护套、锁紧螺钉、锁紧螺母、锥形密封套、O形密封圈、阴极安装座,所述阴极安装座为沿轴向设置中心通孔的轴套,所述阴极安装座同轴外套在阴极杆上,所述阴极安装座内壁沿轴线方向至少设置两个圆周方向分布的环形密封凹槽,每个所述环形密封凹槽内设置一O形密封圈,每个所述O形密封圈内嵌在环形密封凹槽内并外套在阴极杆上;所述阴极安装座上端管口为外扩的锥形孔,阴极安装座上端外壁设置一段外螺纹;锁紧螺母包括设置有内螺纹接口的螺母套及同轴一体设置在所述螺母套上端的密封轴套。本申请结构简单,密封性能可靠,靶基距方便调节,密封结构在平时使用过程中方便维护。

    一种用于随基片升降的加热装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115786864A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211560876.2

    申请日:2022-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种用于随基片升降的加热装置,包括安装板、固定壳体、基板、反射盘、第一空心轴、第二空心轴、加热盘支撑管组件、加热管、加热盘、加热管固定块、伸缩波纹管;固定壳体的下端外壁设置法兰盘,固定壳体设置在所述安装板上,固定壳体的法兰盘通过螺钉与安装板连接固定,固定壳体的顶部中间位置设置第一安装通孔,第一安装通孔下方正对的安装板上设置第二安装通孔;第一空心轴由同轴设置的上空心轴、下空心轴两段轴组成,上空心轴位于下空心轴上方,上空心轴外壁设置外螺纹一,下空心轴外壁设置外螺纹二,外螺纹一与外螺纹二为旋向相反的螺纹。本发明能准确对基片进行加热,温度可控性好,能够保持加热盘和样品高度保持一致性。

    一种用于圆形靶磁控溅射的多工位转架

    公开(公告)号:CN116623142A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310374520.8

    申请日:2023-04-10

    Abstract: 本发明公开了一种用于圆形靶磁控溅射的多工位转架,包括:镀膜腔体、公转盘、自转齿轮,中心一级齿轮,中心二级齿轮,二级传动齿轮,磁流体一,磁流体二,伺服电机,变频电机以及绝缘零件;镀膜腔体的底板上设置第一安装孔和第二安装孔;第一安装孔下端设置第一安装接管,第一安装接管上端焊接在第一安装孔内,第一安装接管下端端面焊接水平的第一安装盘,第一安装盘底部设置水平的绝缘盘一,腔体绝缘盘一与第一安装盘螺接固定在一起,磁流体一安装在绝缘盘一上,安装螺钉外侧套有绝缘垫,实现磁流体和镀膜腔体之间的绝缘。本发明可同时满足单层或者多层薄膜沉积的均匀性,镀膜质量高。

    一种磁路可控式真空阴极电弧离子源

    公开(公告)号:CN111139438B

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN201911353751.0

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种磁路可控式真空阴极电弧离子源,包括电弧离子源壳体,电弧离子源壳体内安装阴极靶座、阴极靶和磁铁,且阴极靶固定于阴极靶座;电弧离子源壳体外壁安装磁轭;所述磁轭由具有顶面的圆筒形磁轭A和圆环形磁轭B组成;磁轭B装在磁轭A内部,且二者接触;磁轭A与电弧离子源壳体之间为自由公差配合,可沿电弧离子源壳体滑动。该弧源的磁轭位置可以调整,通过调整磁轭位置可以调节阴极靶面的磁场强度,并可同步优化阴极靶面的磁场位形分布。

    一种沿面击穿触发式引弧结构

    公开(公告)号:CN112795874A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202011468247.8

    申请日:2020-12-14

    Abstract: 本发明公开一种沿面击穿触发式引弧结构,包括阴极靶、屏蔽盘、触发极陶瓷、导电片、引弧电极触头、内法兰套、外法兰套、密封圈、接线柱及触发式脉冲电源;阴极靶旁边的真空腔室壁上开一个法兰口,接线柱穿过内外法兰套和密封圈,形成端面压紧密封结构,接线柱细端连接引弧电极触头,接线柱粗端和屏蔽盘固定端通过一个导电片搭桥连接,触发极陶瓷表面涂覆石墨涂层,三个触发极陶瓷均布通过定位销安装在屏蔽盘上,触发极陶瓷一端台阶面要搭载在阴极靶外沿上有效接触,触发式脉冲电源的正极与引弧电极触头连接,负极与阴极电杆连接;本发明引弧结构简单,便于实现和产品小型化,经济成本低,同时提高触发放电的可靠性和引弧稳定性。

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