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公开(公告)号：CN100540740C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510058845.7
申请日：2005-03-30
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: H01L41/314 , C23C24/04 , H01L41/1876
Abstract: 本发明提供一种简单方法，来制造如压电膜的膜，其中可以改善基板上的膜的粘附性。包含粒子的气悬体被喷射到基板上以使粒子粘着在其上，其中粒子附着的基板中的粘着表面的维氏硬度Hv(b)与粒子的维氏硬度Hv(p)之间的比率在0.39≤Hv(p)/Hv(b)≤3.08的范围内。粒子与基板之间的粘性因而被改善，以可靠地形成膜。本发明可满意地应用于压电膜的形成。
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公开(公告)号：CN1920094B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610125620.3
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B05D1/02 , C23C24/04 , H01L41/314
Abstract: 一种膜形成装置，具有：成膜室，用于进行成膜；喷射机构，通过在该成膜室内向基板喷射含材料粒子的气溶胶，在该基板上形成由前述材料粒子构成的膜；测量室，与前述成膜室连通；测量机构，测量前述测量室内的前述膜的厚度；压力调整机构，与前述成膜室及前述测量室连接，控制该成膜室及测量室的内压；传送带，在前述成膜室和前述测量室之间传送前述基板；以及隔断部，隔断前述成膜室和前述测量室。由此可保持测量室的内部清洁，不受气溶胶的污染，维持测量精度，在成膜工艺过程中，简单而又精确地测量膜厚，并向成膜条件反馈。
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公开(公告)号：CN101045382B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200710088142.8
申请日：2007-03-20
Applicant: 兄弟工业株式会社
CPC classification number: B41J2/161 , B41J2/1646 , B41J2002/14459 , C23C4/123 , C23C24/04 , H01L41/1876 , H01L41/314
Abstract: 移动成膜喷嘴，以使其上通过相对于振动板移动成膜喷嘴形成有压电材料层的多个区域的边界部分位于振动板的可变形部分外部并且与限制部分相重叠。这减少了对应于这些淀积区域的边界部分的一部分压电材料层上的应力集中，因此防止了压电材料层的损坏。
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公开(公告)号：CN101045382A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710088142.8
申请日：2007-03-20
Applicant: 兄弟工业株式会社
CPC classification number: B41J2/161 , B41J2/1646 , B41J2002/14459 , C23C4/123 , C23C24/04 , H01L41/1876 , H01L41/314
Abstract: 移动成膜喷嘴，以使其上通过相对于振动板移动成膜喷嘴形成有压电材料层的多个区域的边界部分位于振动板的可变形部分外部并且与限制部分相重叠。这减少了对应于这些淀积区域的边界部分的一部分压电材料层上的应力集中，因此防止了压电材料层的损坏。
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公开(公告)号：CN100476033C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200510058844.2
申请日：2005-03-30
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: C23C24/04 , H01L41/081 , H01L41/0973 , H01L41/1876 , H01L41/314 , Y10T29/42 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明公开了一种通过向基板上喷射含有压电材料颗粒的气溶胶而在基板上制造压电膜的方法，其包括第一膜形成步骤，在基板上形成第一压电层；和第二膜形成步骤，在第一压电层上形成第二压电层，其中在第一和第二膜形成步骤中，当颗粒与基板或第一压电层碰撞时，至少一部分颗粒被压碎；并且在第二膜形成步骤中用于压碎颗粒的平均能量比在第一膜形成步骤中的小。根据本发明的压电膜在面向基板一侧上的层具有良好粘接性，在外侧上的层具有良好的压电特性。由于可用相同AD方法，只要改变形成膜的条件就可以层叠具有不同特性的层，因此可用简单的工艺获得具有良好特性的压电膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1676668A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510058845.7
申请日：2005-03-30
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: H01L41/314 , C23C24/04 , H01L41/1876
Abstract: 本发明提供一种简单方法，来制造如压电膜的膜，其中可以改善基板上的膜的粘附性。包含粒子的气悬体被喷射到基板上以使粒子粘着在其上，其中粒子附着的基板中的粘着表面的维氏硬度Hv(b)与粒子的维氏硬度Hv(p)之间的比率在0.39≤Hv(p)/Hv(b)≤3.08的范围内。粒子与基板之间的粘性因而被改善，以可靠地形成膜。本发明可满意地应用于压电膜的形成。
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公开(公告)号：CN1676667A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510058844.2
申请日：2005-03-30
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: C23C24/04 , H01L41/081 , H01L41/0973 , H01L41/1876 , H01L41/314 , Y10T29/42 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明公开了一种通过向基板上喷射含有压电材料颗粒的气溶胶而在基板上制造压电膜的方法，其包括第一膜形成步骤，在基板上形成第一压电层；和第二膜形成步骤，在第一压电层上形成第二压电层，其中在第一和第二膜形成步骤中，当颗粒与基板或第一压电层碰撞时，至少一部分颗粒被压碎；并且在第二膜形成步骤中用于压碎颗粒的平均能量比在第一膜形成步骤中的小。根据本发明的压电膜在面向基板一侧上的层具有良好粘接性，在外侧上的层具有良好的压电特性。由于可用相同AD方法，只要改变形成膜的条件就可以层叠具有不同特性的层，因此可用简单的工艺获得具有良好特性的压电膜。
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公开(公告)号：CN1920096B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200610125621.8
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C23C24/04
CPC classification number: B05B7/1486 , B05B7/0012 , B05B7/025 , B05B7/1404 , B05B7/1472 , C23C4/00 , C23C4/02 , C23C4/04 , C23C4/073 , C23C4/18 , C23C30/00
Abstract: 本发明的成膜装置包括：气溶胶产生部，将材料颗粒分散在载气中以产生气溶胶；喷嘴，内部设有供所述气溶胶流过的内部通路，该内部通路的一端构成用于接受所述气溶胶从所述气溶胶产生部的供给的供给口，另一端构成用于向被处理材料喷出所述气溶胶的喷出口；窄路，设在所述内部通路中且流路面积比其上游侧的流路面积窄；和冲撞部，设在所述窄路的下游侧且受到通过所述窄路的所述气溶胶流的冲撞，因此，凝集颗粒被粉碎，以微粒化的状态从喷嘴供给，可在被处理材料上形成薄的均匀的膜。
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公开(公告)号：CN100457971C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200510083164.6
申请日：2005-07-13
Applicant: 兄弟工业株式会社
Inventor： 安井基博
CPC classification number: H01L41/314 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明的压电膜形成方法，具有第一移动工序、计测工序、计算工序、移位工序和第二移动工序。第一移动工序，通过沿着第一方向相对移动吹出混合物的喷嘴和基板，形成一定宽度的沿着第一方向延伸的第一压电带。计测工序计测第一压电带的宽度方向的厚度分布。计算工序，根据由计测工序所计测的厚度分布，来计算移位距离。移位工序，沿着第二方向将喷嘴和基板相对移动计算的移位距离。第二移动工序，通过沿着第一方向相对移动吹出混合物的喷嘴和基板，形成一定宽度的沿着第一方向延伸的第二压电带。利用该方法，形成第一压电带的宽度方向的端部与第二压电带的宽度方向的端部重合、连续的压电膜。
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公开(公告)号：CN1920095A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610125622.2
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B05D1/02 , B05B7/0012 , B05B12/36
Abstract: 本发明的成膜装置包括：成膜室，用于进行成膜；排气装置，与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部；支架，设在所述成膜室内并保持被处理材料；喷嘴，设在所述成膜室内，具有形成狭缝状的喷出口，并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶，从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜；和遮蔽部件，设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方，因此，可抑制排气流引起的气溶胶流的紊乱，可均匀地形成膜。
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