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发明公开
单面抛光装置及单面抛光方法以及抛光垫审中-实审

公开(公告)号：CN115720542A

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN202180044828.5

申请日：2021-05-24

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 上野淳一 , 石井薫

IPC: B24B37/24

Abstract: 本发明涉及一种单面抛光装置，其具有：具有真空吸附用的沟槽的底部平台；通过真空吸附固定的可拆装的抛光平台；抛光垫；及保持晶圆的抛光头，使保持于抛光头的晶圆的表面与抛光垫滑动接触而进行抛光，所述单面抛光装置中，抛光垫通过依次层叠抛光晶圆的表面的抛光层、第一粘着层、PET片层、第二粘着层、弹性层及用以贴附于抛光平台的第三粘着层而成，且抛光垫的压缩率为16％以上。由此，提供一种单面抛光装置，其在晶圆的单面抛光(特别是在使用真空吸附式的可拆装的抛光平台的单面抛光)中，可抑制晶圆的NT质量在抛光后恶化。

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