公开(公告)号：CN105164792B

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201480023016.2

申请日：2014-04-09

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 椛澤均 ,  阿部达夫

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12

CPC classification number: B08B3/12 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67057

Abstract: 本发明涉及一种清洗方法，其是使用在底面具有倾斜的清洗槽来进行被清洗物的超声波清洗的清洗方法，其特征在于，使用多个所述清洗槽，并使该多个清洗槽的底面的倾斜方向在每个相邻的清洗槽改变，来清洗所述被清洗物。由此，能够解决在通过超声波清洗所实施的晶圆清洗中的晶圆清洗不均。

公开(公告)号：CN105164792A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201480023016.2

申请日：2014-04-09

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 椛澤均 ,  阿部达夫

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12

CPC classification number: B08B3/12 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67057

Abstract: 本发明涉及一种清洗方法，其是使用在底面具有倾斜的清洗槽来进行被清洗物的超声波清洗的清洗方法，其特征在于，使用多个所述清洗槽，并使该多个清洗槽的底面的倾斜方向在每个相邻的清洗槽改变，来清洗所述被清洗物。由此，能够解决在通过超声波清洗所实施的晶圆清洗中的晶圆清洗不均。