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公开(公告)号：CN105939961B
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201580006723.5
申请日：2015-01-14
Applicant: 信越半导体株式会社
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D53/62 , B01D53/75 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2255/1021 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2258/0216 , C01B23/001 , C01B23/0015 , C01B23/0021 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B23/0078 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0098 , Y02A50/2341 , Y02C10/04 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明是一种氩气回收精制方法及氩气回收精制装置，该方法具有从单晶硅制造装置向废氩气贮槽导入含有氮气、氧气及一氧化碳的废氩气的工序、用去除所述废氩气中的固形物的预处理设备来去除所述固形物的工序、通过催化反应分别将所述氧气转化为水、将所述一氧化碳转化为二氧化碳的工序、及去除所述水、所述二氧化碳及所述氮气得到回收气体的工序，在通过将催化剂配置于双级压缩机内，仅用压缩热进行所述催化反应来得到所述回收气体的工序中，在预先用干燥机去除所述水后，用常温吸附塔吸附去除所述氮气、所述二氧化碳。由此提供一种使用简单且低成本的设备，就能够稳定去除从单晶硅制造装置排出的大风量氩气中所含的杂质气体的氩气回收精制方法。
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公开(公告)号：CN105939961A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580006723.5
申请日：2015-01-14
Applicant: 信越半导体株式会社
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D53/62 , B01D53/75 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2255/1021 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2258/0216 , C01B23/001 , C01B23/0015 , C01B23/0021 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B23/0078 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0098 , Y02A50/2341 , Y02C10/04 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明是一种氩气回收精制方法及氩气回收精制装置，该方法具有从单晶硅制造装置向废氩气贮槽导入含有氮气、氧气及一氧化碳的废氩气的工序、用去除所述废氩气中的固形物的预处理设备来去除所述固形物的工序、通过催化反应分别将所述氧气转化为水、将所述一氧化碳转化为二氧化碳的工序、及去除所述水、所述二氧化碳及所述氮气得到回收气体的工序，在通过将催化剂配置于双级压缩机内，仅用压缩热进行所述催化反应来得到所述回收气体的工序中，在预先用干燥机去除所述水后，用常温吸附塔吸附去除所述氮气、所述二氧化碳。由此提供一种使用简单且低成本的设备，就能够稳定去除从单晶硅制造装置排出的大风量氩气中所含的杂质气体的氩气回收精制方法。
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