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公开(公告)号：CN117063119A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280024213.0
申请日：2022-03-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带粘合剂层的防护薄膜框架，与以往相比，可抑制粘合剂层的平坦度的劣化，进而可缓和自防护薄膜对光掩模赋予的应力，结果可抑制PID(Pellicle Induced Distorion)。本发明提供一种带粘合剂层的防护薄膜框架，具有：一个端面，设置有防护薄膜膜片；以及另一个端面，设置有用于贴附至光掩模的粘合剂层，其中，所述粘合剂层的厚度为0.10mm～0.30mm，且所述粘合剂层的粘合力为5×10‑3N/cm～5×10‑1N/cm，以及提供一种在所述一个端面设置防护薄膜膜片而成的防护薄膜。
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公开(公告)号：CN113924526A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202080041511.1
申请日：2020-04-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜(10)，具有：防护膜(12)；防护薄膜框架(11)，在其中一端面设置所述防护膜(12)；以及粘合剂层(14)，设置在所述防护薄膜框架(11)的另一端面，其中在将所述防护薄膜(10)的粘合剂层(14)贴附于石英制掩膜基板(1)上后，从所述基板(1)的背面起对所述防护薄膜(10)的粘合剂层(14)的贴附部分以10J/cm2照射193nm的紫外线，在所述照射后剥离所述防护薄膜(10)时，残留在所述基板(1)上的所述粘合剂层(14)的剥离残渣量为0.5mg以下。
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公开(公告)号：CN118140178A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202280071247.5
申请日：2022-08-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/62
Abstract: [问题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的严苛的使用条件，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气口贴靠的过滤器的高性能化。[解决方案]本发明的防护膜包括：防护膜框架；极薄的防护膜片，设置于所述防护膜框架的上端面；通气口，设置于所述防护膜框架；以及过滤器，堵塞所述通气口，所述过滤器包含片材以及支撑体，所述片材的一部分或全部包含纳米纤维或碳纳米管中的至少一者，所述支撑体具有支撑所述片材的开口部。
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公开(公告)号：CN107436534B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201710379521.6
申请日：2017-05-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表膜构件，在使表膜构件框架与光掩模贴合时，能减少从表膜构件框架向光掩模传递的应力，抑制光掩模的变形。本发明的表膜构件包括框状的表膜构件框架和张设于表膜构件框架的上端面的表膜，其特征在于，在表膜构件框架的与上端面相对的下端面，在其整周上设有包括凝胶状物质的密封材料层，并且在表膜构件框架的下端面的一部分的多个部位设有粘合剂层。
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公开(公告)号：CN111258178B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN201911183115.8
申请日：2019-11-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
IPC: G03F1/62
Abstract: 本发明涉及一种防尘薄膜组件及其制造方法。防尘薄膜组件可提升防尘薄膜的强度，缓和曝光时的高速扫描运动所造成的防尘薄膜的振动，而抑制迭对恶化。本发明为达到上述目的，提供一种防尘薄膜组件，于防尘薄膜框架张设有防尘薄膜；上述防尘薄膜，是施行了退火处理的防尘薄膜。并且提供一种防尘薄膜组件的制造方法，是于防尘薄膜框架张设防尘薄膜而制造防尘薄膜组件的方法；上述方法包含以下步骤之一：在将上述防尘薄膜张设于防尘薄膜框架之前，对上述防尘薄膜单体进行退火处理的步骤；在上述防尘薄膜的张设后，对防尘薄膜组件进行退火处理的步骤；或在上述防尘薄膜的张设前及张设后的双方，对防尘薄膜单体及防尘薄膜组件进行退火处理的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117980819A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280063585.4
申请日：2022-08-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: [课题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的最大容许异物尺寸的降低以及供防护膜片暴露的严酷的气压的变动，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气孔贴靠的过滤器的高性能化。[解决手段]本发明的防护膜包括：防护膜框架3；防护膜片1，设置于所述防护膜框架的上端面；通气孔6，设置于所述防护膜框架；以及过滤器7，堵塞所述通气孔，所述过滤器的一部分或全部具有纳米纤维或碳纳米管中的至少一者所构成的不织布。
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公开(公告)号：CN108227369A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711408496.6
申请日：2017-12-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64 , G03F1/142 , G03F7/70983
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表现出高的PID(表膜构件变形)抑制效果的表膜构件框架和使用它的表膜构件。本发明的表膜构件框架是多边形框形状的表膜构件框架，其特征在于，在表膜构件框架的角部内部形成有中空部。另外，本发明的表膜构件框架也可以在表膜构件框架的直线部内部形成有中空部，优选形成在表膜构件框架的角部内部的中空部和形成在直线部内部的中空部是连通的。
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公开(公告)号：CN114144728A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202080041500.3
申请日：2020-04-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜用粘合剂、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜用粘合剂，用以将防护薄膜贴附在曝光原版上，所述防护薄膜用粘合剂中，将SP值为10.0以上且12.0以下的丙烯酸系聚合物作为母材。
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公开(公告)号：CN113966487A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202080041531.9
申请日：2020-04-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜用粘合剂、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜用粘合剂，用以将防护薄膜贴附在曝光原版上，所述防护薄膜用粘合剂含有聚乙烯基醚化合物。
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公开(公告)号：CN107436534A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710379521.6
申请日：2017-05-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 西村晃范
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64 , G03F7/2004
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表膜构件，在使表膜构件框架与光掩模贴合时，能减少从表膜构件框架向光掩模传递的应力，抑制光掩模的变形。本发明的表膜构件包括框状的表膜构件框架和张设于表膜构件框架的上端面的表膜，其特征在于，在表膜构件框架的与上端面相对的下端面，在其整周上设有包括凝胶状物质的密封材料层，并且在表膜构件框架的下端面的一部分的多个部位设有粘合剂层。
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