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发明公开
能够高速地进行气压调整的曝光用防护膜审中-实审

公开(公告)号：CN118140178A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202280071247.5

申请日：2022-08-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 久保田芳宏 , 簗瀬优 , 竹内彩乃 , 西村晃范 , 野崎聡

IPC: G03F1/62

Abstract: [问题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的严苛的使用条件，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气口贴靠的过滤器的高性能化。[解决方案]本发明的防护膜包括：防护膜框架；极薄的防护膜片，设置于所述防护膜框架的上端面；通气口，设置于所述防护膜框架；以及过滤器，堵塞所述通气口，所述过滤器包含片材以及支撑体，所述片材的一部分或全部包含纳米纤维或碳纳米管中的至少一者，所述支撑体具有支撑所述片材的开口部。

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