公开(公告)号：CN117546089A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202280043894.5

申请日：2022-03-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  林久美子

IPC: G03F7/075

Abstract: 提供感光性树脂组合物，其包含：(A)具有环氧基和/或酚羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)表示的光致产酸剂、和(C)苯并三唑系化合物。

公开(公告)号：CN111381447A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201911375720.5

申请日：2019-12-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  菅生道博

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及感光树脂组合物、层叠体和图案形成方法。涂布包含(A)含有机硅骨架的聚合物、(B)光致产酸剂和(C)过氧化物的感光树脂组合物形成感光树脂涂层，其在保持挠性的同时不易发生塑性变形。还提供了使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：CN117501180A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280043710.5

申请日：2022-06-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  丸山仁

IPC: G03F7/16

Abstract: 本发明涉及一种层叠体，其由半导体基板与形成在所述半导体基板上的光敏性树脂层构成，所述层叠体的特征在于，所述光敏性树脂层包含含有有机硅骨架的树脂或丙烯酸树脂，所述半导体基板在一侧具有段差面，所述段差面的凹部被预湿溶剂填满，并在其之上形成有所述光敏性树脂层。由此，可提供一种层叠体，该层叠体通过使用包含含有有机硅骨架的树脂或丙烯酸树脂的光敏性组合物，段差基板的段差面的凹部被所述树脂充分填埋，从而可提供平坦的光敏性树脂覆膜，本发明还提供材料损耗少的所述层叠体的制造方法及使用了所述层叠体的图案形成方法。

公开(公告)号：CN114127635A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202080050683.5

申请日：2020-07-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  曾我恭子

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  H05K3/28 ,  C08G77/52 ,  G03F7/20

Abstract: 提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)含有有机硅骨架的聚合物和(B)光致产酸剂，(B)光致产酸剂包含(B1)鎓盐光致产酸剂和(B2)鎓盐以外的光致产酸剂。

公开(公告)号：CN109422881B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN201810998756.8

申请日：2018-08-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  丸山仁 ,  近藤和纪 ,  加藤英人

IPC: C08G77/388 ,  G03F7/004 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物，其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层，适应微加工，并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工，以限定具有精细尺寸和垂直度的图案，并且变成固化涂层，该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性，且作为绝缘保护膜是可靠的。

公开(公告)号：CN109422881A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810998756.8

申请日：2018-08-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  丸山仁 ,  近藤和纪 ,  加藤英人

IPC: C08G77/388 ,  G03F7/004 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G59/306 ,  C08G77/52 ,  C08K5/005 ,  C08L61/28 ,  C08L63/00 ,  C08L83/04 ,  C09D183/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/47 ,  C08K5/375 ,  C08K5/1515 ,  C08G77/388 ,  G03F7/004 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物，其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层，适应微加工，并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工，以限定具有精细尺寸和垂直度的图案，并且变成固化涂层，该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性，且作为绝缘保护膜是可靠的。

公开(公告)号：CN111381447B

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN201911375720.5

申请日：2019-12-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 林久美子 ,  菅生道博

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004

公开(公告)号：CN117120927A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202280027009.4

申请日：2022-03-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  林久美子

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供包含(A)含有酸交联性基团的有机硅树脂、(B)由下述式(B1)或(B2)表示的脂环式环氧化合物、和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物。(式中，R11～R46各自独立地为氢原子或碳数1～8的饱和烃基。)

公开(公告)号：CN116710846A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202280010886.0

申请日：2022-01-05

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  林久美子

IPC: G03F7/075

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，其包含：(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的光致产酸剂、和(C)羧酸季铵化合物。