氧化物半导体薄膜晶体管

    公开(公告)号:CN101884110B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN200880118787.4

    申请日:2008-11-27

    发明人: 岛田干夫

    IPC分类号: H01L29/786

    CPC分类号: H01L29/7869 H01L29/78618

    摘要: 本发明涉及一种氧化物半导体薄膜晶体管,该晶体管包含:基板上的栅电极、栅绝缘层、包含非晶氧化物的半导体层、源漏电极、以及保护层。所述半导体层包含与形成有所述源漏电极的区域相对应的第一区域和不与形成有所述源漏电极的区域相对应的第二区域。至少所述第一区域包含组分与第二区域中的非晶氧化物的组分不同的结晶成分。