曝光方法及装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1703656A

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN02801862.1

    申请日:2002-04-24

    Abstract: 本发明公开了一种曝光方法,包括在掩模上形成这样一种分布,即一个接触孔图案和多个均小于接触孔图案的图案;并利用多种光对掩模照明,从而通过投影光学系统分辨靶上没有较小图案的接触孔图案。

    摄像光学系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100587586C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200710104584.7

    申请日:2007-05-25

    CPC classification number: G03B5/06 G02B27/0025

    Abstract: 公开了一种摄像光学系统,所述摄像光学系统能够在从低角度拍摄对象图像的情况下在宽区域中执行对焦而无需大大增加倾斜角。摄像光学系统包含第一光学系统和用于放大由第一光学系统形成的图像并且形成放大的图像的第二光学系统。第一光学系统的主平面相对第二光学系统的像面倾斜。

    检查设备和方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101344491A

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200810132340.4

    申请日:2008-07-11

    CPC classification number: G01N21/952 G01N21/4738 G06T7/0004

    Abstract: 本发明涉及一种检查设备和方法。所述检查设备包括:拍摄图像获取单元,用于获取通过拍摄检查对象所获取的拍摄图像;获取单元,用于从所述拍摄图像中获取反射光相对于发射到所述检查对象的照明光的入射角的强度分布不同的第一图像区域和第二图像区域;以及图像处理单元,用于对所述第一图像区域和所述第二图像区域分别进行用于不同表面检查的图像处理。

    检查设备和方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101344491B

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:CN200810132340.4

    申请日:2008-07-11

    CPC classification number: G01N21/952 G01N21/4738 G06T7/0004

    Abstract: 本发明涉及一种检查设备和方法。所述检查设备包括:拍摄图像获取单元,用于获取通过拍摄检查对象所获取的拍摄图像;获取单元,用于从所述拍摄图像中获取反射光相对于发射到所述检查对象的照明光的入射角的强度分布不同的第一图像区域和第二图像区域;以及图像处理单元,用于对所述第一图像区域和所述第二图像区域分别进行用于不同表面检查的图像处理。

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