曝光方法及装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1703656A

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN02801862.1

    申请日:2002-04-24

    Abstract: 本发明公开了一种曝光方法,包括在掩模上形成这样一种分布,即一个接触孔图案和多个均小于接触孔图案的图案;并利用多种光对掩模照明,从而通过投影光学系统分辨靶上没有较小图案的接触孔图案。

    模具
    4.
    发明公开
    模具 无效

    公开(公告)号:CN104249420A

    公开(公告)日:2014-12-31

    申请号:CN201410282999.3

    申请日:2014-06-23

    Abstract: 本发明提供一种模具,包括要通过执行压印处理被转印到涂敷于基板上的树脂的图案,该模具包括:包含第一表面和与第一表面相反的第二表面的第一部分,所述第一表面包含设置有图案的图案部分和包围图案部分的周边部分;和包围第一部分并且比第一部分厚的第二部分,其中,通过第一部分的第二表面和第二部分的内表面形成凹形部分,并且,凹形部分在周边部分的相反侧的区域中设置有遮光部分。

    压印装置、压印方法、压印系统和器件制造方法

    公开(公告)号:CN103091977A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210414491.5

    申请日:2012-10-26

    CPC classification number: G01N21/956 B82Y10/00 B82Y40/00 G01N21/91 G03F7/0002

    Abstract: 本公开涉及压印装置、压印方法、压印系统和器件制造方法。一种使形成在模具上的图案与提供给基板的压印材料相接触以将图案转印到压印材料的压印装置包括:发射单元,被配置为发射用于使发光材料发射光的激发光;检测单元,被配置为检测光;和模具保持单元,被配置为保持包括所述发光材料的模具,其中,在图案被转印到压印材料之后,发射单元向转印到压印材料的图案发射激发光,并且检测单元检测从残留在压印材料中的发光材料发射的光。

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