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公开(公告)号：CN109388034A
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201810874025.2
申请日：2018-08-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70591 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/706 , G03F7/70891 , G03F7/70483
Abstract: 本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。
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公开(公告)号：CN112015055B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202010472360.7
申请日：2020-05-29
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小泉僚
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光基板的曝光装置。该装置包括被配置成将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置成调整投影光学系统的成像特性的调整单元以及被配置成使用预测公式预测由投影光学系统吸收曝光能量引起的成像特性的波动，基于预测的结果控制调整单元并曝光基板的控制单元。控制单元应用一种模式，在该模式下，在用于顺序地曝光多个基板的作业中，在曝光每个基板之前测量成像特性，并且在完成作业之后，基于各个测量结果来更新预测公式中的预测系数。在该模式下，不仅在作业中设定的曝光视角内而且还在作业中设定的曝光视角外测量成像特性。
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公开(公告)号：CN112015055A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010472360.7
申请日：2020-05-29
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小泉僚
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光基板的曝光装置。该装置包括被配置成将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置成调整投影光学系统的成像特性的调整单元以及被配置成使用预测公式预测由投影光学系统吸收曝光能量引起的成像特性的波动，基于预测的结果控制调整单元并曝光基板的控制单元。控制单元应用一种模式，在该模式下，在用于顺序地曝光多个基板的作业中，在曝光每个基板之前测量成像特性，并且在完成作业之后，基于各个测量结果来更新预测公式中的预测系数。在该模式下，不仅在作业中设定的曝光视角内而且还在作业中设定的曝光视角外测量成像特性。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN112130421B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202010590397.X
申请日：2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。
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公开(公告)号：CN109388034B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201810874025.2
申请日：2018-08-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。
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公开(公告)号：CN112130421A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN202010590397.X
申请日：2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。
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公开(公告)号：CN106842821A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201611025260.X
申请日：2016-11-16
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小泉僚
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70433 , G03F7/70425 , G03F7/70466 , G03F7/70475 , G03F7/70483 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70358 , G03F7/70458
Abstract: 本公开涉及曝光装置和物品制造方法。本发明提供用于曝光基板上的多个击射区域中的每一个的曝光装置。该曝光装置包括控制单元，该控制单元被配置为使用用于控制在基板上曝光的击射区域的形状的控制信息来控制曝光基板上的多个击射区域中的每一个的曝光处理，从而使得多个击射区域相邻。控制信息包含校正信息，该校正信息用于基于相邻的多个击射区的布局信息校正由曝光多个击射区域中的每一个时多个击射区域的形状的变形导致的多个击射区域的相邻部分的偏移。控制单元通过使用校正信息控制曝光处理。
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