曝光装置、曝光方法、器件的制造方法以及开口板

    公开(公告)号:CN103389624A

    公开(公告)日:2013-11-13

    申请号:CN201310163023.X

    申请日:2013-05-07

    Abstract: 本发明提供曝光装置,具备把掩模的图案投影到基板的投影光学系统,边使经上述投影光学系统在上述基板上形成的投影区域的一部分在第1方向叠合,边使上述掩模和上述基板在与上述第1方向正交的第2方向同步移动,把上述图案转印到上述基板,特征是具备具有用于规定上述投影区域的开口的开口板;遮光上述开口的一部分,调整上述投影区域的上述第1方向的端部形状的调整部;取得上述投影区域所叠合的重叠区域的上述第1方向的宽度的取得部;控制部,根据上述取得部取得的宽度,决定上述投影区域的上述第1方向的端部形状,使得减少形成在上述基板上的照度分布的不均匀,控制上述调整部使上述投影区域的上述第1方向的端面为该所决定的形状。

    曝光装置、曝光方法、器件的制造方法以及开口板

    公开(公告)号:CN103389624B

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201310163023.X

    申请日:2013-05-07

    Abstract: 本发明提供曝光装置,具备把掩模的图案投影到基板的投影光学系统,边使经上述投影光学系统在上述基板上形成的投影区域的一部分在第1方向叠合,边使上述掩模和上述基板在与上述第1方向正交的第2方向同步移动,把上述图案转印到上述基板,特征是具备具有用于规定上述投影区域的开口的开口板;遮光上述开口的一部分,调整上述投影区域的上述第1方向的端部形状的调整部;取得上述投影区域所叠合的重叠区域的上述第1方向的宽度的取得部;控制部,根据上述取得部取得的宽度,决定上述投影区域的上述第1方向的端部形状,使得减少形成在上述基板上的照度分布的不均匀,控制上述调整部使上述投影区域的上述第1方向的端面为该所决定的形状。

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