-
公开(公告)号：CN103389624B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201310163023.X
申请日：2013-05-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置，具备把掩模的图案投影到基板的投影光学系统，边使经上述投影光学系统在上述基板上形成的投影区域的一部分在第1方向叠合，边使上述掩模和上述基板在与上述第1方向正交的第2方向同步移动，把上述图案转印到上述基板，特征是具备具有用于规定上述投影区域的开口的开口板；遮光上述开口的一部分，调整上述投影区域的上述第1方向的端部形状的调整部；取得上述投影区域所叠合的重叠区域的上述第1方向的宽度的取得部；控制部，根据上述取得部取得的宽度，决定上述投影区域的上述第1方向的端部形状，使得减少形成在上述基板上的照度分布的不均匀，控制上述调整部使上述投影区域的上述第1方向的端面为该所决定的形状。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109416457B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780040473.6
申请日：2017-06-16
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供能够抑制与光学元件的形状校正相伴的发热，高精度地校正形状的光学装置。使镜(1)的反射面(1a)变形的光学装置(10)具有：底板(5)，与作为反射面(1a)的相反侧的面的背面(1b)分离地配置；以及校正单元(2)，包括安装于反射面(1a)的相反侧的面的镜侧磁体(3)、和配置于底板(5)的与镜侧磁体(3)对置的位置的基部侧磁体(4)。校正单元(2)利用由镜侧磁体(3)和基部侧磁体(4)产生的排斥力或者吸引力来校正反射面(1a)的形状。
-
公开(公告)号：CN103389624A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201310163023.X
申请日：2013-05-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置，具备把掩模的图案投影到基板的投影光学系统，边使经上述投影光学系统在上述基板上形成的投影区域的一部分在第1方向叠合，边使上述掩模和上述基板在与上述第1方向正交的第2方向同步移动，把上述图案转印到上述基板，特征是具备具有用于规定上述投影区域的开口的开口板；遮光上述开口的一部分，调整上述投影区域的上述第1方向的端部形状的调整部；取得上述投影区域所叠合的重叠区域的上述第1方向的宽度的取得部；控制部，根据上述取得部取得的宽度，决定上述投影区域的上述第1方向的端部形状，使得减少形成在上述基板上的照度分布的不均匀，控制上述调整部使上述投影区域的上述第1方向的端面为该所决定的形状。
-
公开(公告)号：CN109416457A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780040473.6
申请日：2017-06-16
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供能够抑制与光学元件的形状校正相伴的发热，高精度地校正形状的光学装置。使镜(1)的反射面(1a)变形的光学装置(10)具有：底板(5)，与作为反射面(1a)的相反侧的面的背面(1b)分离地配置；以及校正单元(2)，包括安装于反射面(1a)的相反侧的面的镜侧磁体(3)、和配置于底板(5)的与镜侧磁体(3)对置的位置的基部侧磁体(4)。校正单元(2)利用由镜侧磁体(3)和基部侧磁体(4)产生的排斥力或者吸引力来校正反射面(1a)的形状。
-
公开(公告)号：CN104977812B
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201510140909.1
申请日：2015-03-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/70 , G03F7/70141 , G03F9/7088
Abstract: 本发明公开了一种曝光装置以及用于制造物品的方法，该曝光装置包含：经由原件侧标记和投影光学系统来检测基板侧标记的第一检测器；与第一检测器相比按照更多的数量来布置的且在不经由投影光学系统的情况下检测基板侧标记的第二检测器；具有参考标记的参考板；以及控制单元，该控制单元被配置为：通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果，基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息，并且基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。
-
公开(公告)号：CN104977812A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201510140909.1
申请日：2015-03-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/70 , G03F7/70141 , G03F9/7088
Abstract: 本发明公开了一种曝光装置以及用于制造物品的方法，该曝光装置包含：经由原件侧标记和投影光学系统来检测基板侧标记的第一检测器；与第一检测器相比按照更多的数量来布置的且在不经由投影光学系统的情况下检测基板侧标记的第二检测器；具有参考标记的参考板；以及控制单元，该控制单元被配置为：通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果，基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息，并且基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.016 seconds)
