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公开(公告)号：CN102343718B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201110211304.9
申请日：2011-07-27
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14024 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1631 , B41J2/1645 , B41J2002/14387
摘要： 本发明涉及液体喷射头及其制备方法。所述液体喷射头包括：基板，所述基板具有被配置为产生用于从孔喷射液体的能量的能量产生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的内壁；以及中间层，所述中间层被设置在所述基板的表面和所述通道壁部件之间并与它们接触，并且具有与所述通道壁部件的折射率不同的折射率。所述中间层具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面在从所述孔向所述基板的方向上观看时形成符号的轮廓并与所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面对所述通道并与所述基板的所述表面成第二角度。所述第一角度是钝角。所述第二角度小于所述第一角度。
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公开(公告)号：CN101380847B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200810212556.1
申请日：2008-09-05
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： 本发明公开了一种用于制造液体喷射头基底的方法，所述基底包括具有用于供应液体的供给端口的硅基底。所述方法包括：在硅基底表面上设置蚀刻掩模层，所述蚀刻掩模层在与所述供给端口相对应的部分上具有开口；通过经由蚀刻掩模层上的开口对硅基底进行各向异性蚀刻而在所述硅基底上形成第一凹部；在所述硅基底的第一凹部的表面上形成第二凹部，所述第二凹部朝向硅基底的另一表面延伸；和通过从具有第二凹部的表面对所述硅基底进行各向异性蚀刻而形成供给端口。本发明还公开了相应的液体喷射头。
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公开(公告)号：CN104108241B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201410147939.0
申请日：2014-04-14
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： B41J2/01
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1433
摘要： 一种液体喷出头，其包括：基板，其具有：产生用于喷出液体的能量的能量产生元件；和用于将液体供给至所述能量产生元件的供给口；以及喷出口形成构件，其具有：多个喷出口，液体经由所述多个喷出口被喷出：和至少一个梁状突起，所述梁状突起在与所述供给口对应的位置处朝向所述基板突出并沿着所述喷出口的排列方向延伸，其中，所述梁状突起的在所述喷出口的所述排列方向上的中央部中的与所述喷出口的所述排列方向垂直的截面面积大于所述梁状突起的在所述排列方向上的两端部中的在与所述喷出口的所述排列方向垂直的方向上的截面面积。
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公开(公告)号：CN102343718A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110211304.9
申请日：2011-07-27
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14024 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1631 , B41J2/1645 , B41J2002/14387
摘要： 本发明涉及液体喷射头及其制备方法。所述液体喷射头包括：基板，所述基板具有被配置为产生用于从孔喷射液体的能量的能量产生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的内壁；以及中间层，所述中间层被设置在所述基板的表面和所述通道壁部件之间并与它们接触，并且具有与所述通道壁部件的折射率不同的折射率。所述中间层具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面在从所述孔向所述基板的方向上观看时形成符号的轮廓并与所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面对所述通道并与所述基板的所述表面成第二角度。所述第一角度是钝角。所述第二角度小于所述第一角度。
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公开(公告)号：CN101380847A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810212556.1
申请日：2008-09-05
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： 本发明公开了一种用于制造液体喷射头基底的方法，所述基底包括具有用于供应液体的供给端口的硅基底。所述方法包括：在硅基底表面上设置蚀刻掩模层，所述蚀刻掩模层在与所述供给端口相对应的部分上具有开口；通过经由蚀刻掩模层上的开口对硅基底进行各向异性蚀刻而在所述硅基底上形成第一凹部；在所述硅基底的第一凹部的表面上形成第二凹部，所述第二凹部朝向硅基底的另一表面延伸；和通过从具有第二凹部的表面对所述硅基底进行各向异性蚀刻而形成供给端口。本发明还公开了相应的液体喷射头。
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公开(公告)号：CN102673156B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201210048283.8
申请日：2012-02-28
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/162 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2002/14475
摘要： 液体喷射头及其制造方法。提供一种液体喷射头的制造方法，液体喷射头包括喷射口构件，喷射口构件具有沿排列方向设置的用于喷射液体的多个喷射口，该方法包括：准备设置有树脂层的基板，其中树脂层含有光固化性树脂；执行第一曝光处理和第二曝光处理，其中第一曝光处理和第二曝光处理均是使树脂层进行曝光的曝光处理；以及在进行了第一曝光处理和第二曝光处理的树脂层中形成喷射口。喷射口的通过第一曝光处理所形成的侧壁相对于基板的倾斜角与喷射口的通过第二曝光处理所形成的侧壁相对于基板的倾斜角不同。
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公开(公告)号：CN104108241A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410147939.0
申请日：2014-04-14
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： B41J2/01
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1433
摘要： 一种液体喷出头，其包括：基板，其具有：产生用于喷出液体的能量的能量产生元件；和用于将液体供给至所述能量产生元件的供给口；以及喷出口形成构件，其具有：多个喷出口，液体经由所述多个喷出口被喷出：和至少一个梁状突起，所述梁状突起在与所述供给口对应的位置处朝向所述基板突出并沿着所述喷出口的排列方向延伸，其中，所述梁状突起的在所述喷出口的所述排列方向上的中央部中的与所述喷出口的所述排列方向垂直的截面面积大于所述梁状突起的在所述排列方向上的两端部中的在与所述喷出口的所述排列方向垂直的方向上的截面面积。
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公开(公告)号：CN102673156A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210048283.8
申请日：2012-02-28
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/162 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2002/14475
摘要： 液体喷射头及其制造方法。提供一种液体喷射头的制造方法，液体喷射头包括喷射口构件，喷射口构件具有沿排列方向设置的用于喷射液体的多个喷射口，该方法包括：准备设置有树脂层的基板，其中树脂层含有光固化性树脂；执行第一曝光处理和第二曝光处理，其中第一曝光处理和第二曝光处理均是使树脂层进行曝光的曝光处理；以及在进行了第一曝光处理和第二曝光处理的树脂层中形成喷射口。喷射口的通过第一曝光处理所形成的侧壁相对于基板的倾斜角与喷射口的通过第二曝光处理所形成的侧壁相对于基板的倾斜角不同。
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