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公开(公告)号：CN119108304A
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202410711400.7
申请日：2024-06-04
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了包括加热部件和光化辐射源的系统以及使用系统的方法。一种系统可以包括：加热部件，用于加热基板上方的可光固化的组合物；光化辐射源，被配置为发射波长小于700nm的光化辐射；和控制器，被配置为确定当可光固化的组合物被光化辐射源曝光时要由第一加热部件产生的目标温度以实现可光固化的组合物的光固化温度，其中，光固化温度高于环境温度。一种方法可以包括：将可光固化的组合物分配在基板上方；在比环境温度高的光固化温度下，对可光固化的组合物的层进行光固化；和烘烤固化层以形成烘烤层。该系统和该方法可以允许层的厚度变化为0％或接近0％。
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公开(公告)号：CN113396468B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202080012116.0
申请日：2020-02-03
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了一种透气性覆板和使用该覆板的方法。覆板可包括主体和所述主体上的无定形含氟聚合物层。平坦化方法可以包括将平坦化前体材料分配在基板上并且使所述平坦化前体材料与覆板的主体接触。在一个实施方式中，基板包括不均匀的表面形貌。该方法还可以包括固化所述平坦化前体材料以在基板上方形成平坦化层，其中可以在使所述覆板接触所述平坦化前体材料的同时进行固化。
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公开(公告)号：CN114245818A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202080056033.1
申请日：2020-07-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C09D11/30 , C09D11/101
Abstract: 可固化组合物可包含可聚合材料和引发剂。所述可聚合材料可包含第一单体和第二单体，其中所述第二单体可溶于所述第一单体中，并且所述第二单体包括选自马来酰亚胺环、吡喃酮环或2‑呋喃酮环的环结构。所述可固化组合物可以具有不大于10mPa·s的粘度、快速固化动力学、低的固化期间收缩，并且适合用于喷墨自适应平坦化。
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公开(公告)号：CN109073968B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780022031.9
申请日：2017-03-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 刘卫军 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 , 叶正茂 , 伊藤俊树
Abstract: 一种从压印的纳米压印光刻基材除去未固化的预处理组合物的纳米压印光刻方法。该方法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层，和将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，并且使复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和预处理涂层的未固化部分，并且从纳米压印光刻基材除去预处理涂层的未固化部分。
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公开(公告)号：CN113396468A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202080012116.0
申请日：2020-02-03
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了一种透气性覆板和使用该覆板的方法。覆板可包括主体和所述主体上的无定形含氟聚合物层。平坦化方法可以包括将平坦化前体材料分配在基板上并且使所述平坦化前体材料与覆板的主体接触。在一个实施方式中，基板包括不均匀的表面形貌。该方法还可以包括固化所述平坦化前体材料以在基板上方形成平坦化层，其中可以在使所述覆板接触所述平坦化前体材料的同时进行固化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108885394A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021958.0
申请日：2017-03-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 刘卫军 , 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 詹姆斯·P·德扬 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫
CPC classification number: H01L21/02304 , G03F7/0002 , H01L21/0212 , H01L21/022 , H01L21/0273
Abstract: 通过使用包括氟化组分的压印抗蚀剂和用预处理组合物处理过的基材以促进压印抗蚀剂在基材上的展开来提高纳米压印光刻法的处理量。预处理组合物与空气之间的界面能超过压印抗蚀剂与空气之间的界面能1mN/m，并且压印抗蚀剂在纳米压印光刻模板上的接触角小于15°。
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公开(公告)号：CN111708260B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202010752918.7
申请日：2016-09-08
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 , 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 刘卫军
Abstract: 本发明涉及在纳米压印光刻中减少填充时间的基材预处理。一种纳米压印光刻方法，其包括将预处理组合物配置在基材上从而形成预处理涂层。预处理组合物包括聚合性组分。离散的压印抗蚀剂部分配置在预处理涂层上，其中压印抗蚀剂的各离散部分覆盖基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分超出其目标区域展开，复合聚合性涂层形成于基材上。复合聚合性涂层包括预处理组合物和压印抗蚀剂的混合物。复合聚合性涂层与模板接触并且聚合，从而得到在基材上的复合聚合物层。预处理组合物与空气之间的界面能超过压印抗蚀剂与空气之间或压印抗蚀剂的至少一个组分与空气之间的界面能。
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公开(公告)号：CN108885394B
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN201780021958.0
申请日：2017-03-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 刘卫军 , 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 詹姆斯·P·德扬 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫
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公开(公告)号：CN113614118A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080023524.6
申请日：2020-03-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C08F2/46 , C08F2/48 , C08F2/50 , C08F220/14 , C08F220/18
Abstract: 光固化性组合物可包含可聚合的材料和光引发剂，其中至少90重量％的可聚合的材料可包含丙烯酸酯单体，所述单体包括芳族基团。光固化性组合物可具有不大于15mPa·s的粘度，固化之后光固化性组合物的总碳含量可为至少73％，和大西数可不大于3.0。
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公开(公告)号：CN109073968A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780022031.9
申请日：2017-03-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 刘卫军 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 , 叶正茂 , 伊藤俊树
Abstract: 一种从压印的纳米压印光刻基材除去未固化的预处理组合物的纳米压印光刻方法。该方法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层，和将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，并且使复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和预处理涂层的未固化部分，并且从纳米压印光刻基材除去预处理涂层的未固化部分。
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