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公开(公告)号：CN104516212A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201410497939.3
申请日：2014-09-25
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G02B26/0858 , G02B26/0825 , G03F7/70266
摘要： 本发明提供一种光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。该光学装置用于使镜的反射面变形，所述光学装置包括：底板；多个第一致动器，其各自被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；多个第二致动器，其各自具有比所述第一致动器低的刚度，并且被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；传感器，其被构造为检测表示所述多个第一致动器中的各个的驱动状态的信息；以及控制单元，其被构造为基于所述传感器的输出，以将所述反射面的形状改变为目标形状的方式对所述多个第一致动器中的各个的驱动以及所述多个第二致动器中的各个的驱动进行控制。
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公开(公告)号：CN108227397A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711263246.8
申请日：2017-12-05
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置。该决定方法决定矩阵，该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力和设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，该决定方法具有：第一工序，在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器时，取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；第二工序，根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。
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公开(公告)号：CN108089407A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711141071.3
申请日：2017-11-17
申请人： 佳能株式会社
发明人： 井本浩平
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光学元件、曝光装置以及物品的制造方法。提供有利于校正如具有多个拐点的复杂的变形的光学元件。光学元件(2)具备：反射镜(21)，具有设置有反射膜的光学面(21a)及与光学面(21a)相反的一侧的非光学面(21b)；以及多个校正膜(23)，设置于非光学面(21b)侧，用于校正反射镜(21)的形状。多个校正膜(23)在非光学面(21b)侧被分开设置于相互不同的多个区域。
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公开(公告)号：CN118715606A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202380021603.7
申请日：2023-01-27
申请人： 佳能株式会社
发明人： 井本浩平
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20
摘要： 一种保持装置，包括：保持单元，所述保持单元被配置为保持物体；相变材料，所述相变材料被布置在所述保持单元中或所述物体的保持表面上，所述相变材料在无定形相与结晶相之间经历相变并且体积随相变而改变；以及控制单元，所述控制单元被配置为控制使用加热单元对相变材料的加热，所述加热单元被配置为加热相变材料以便通过造成相变材料的体积改变来使所述保持表面变形。
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公开(公告)号：CN108089407B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201711141071.3
申请日：2017-11-17
申请人： 佳能株式会社
发明人： 井本浩平
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光学元件、曝光装置以及物品的制造方法。提供有利于校正如具有多个拐点的复杂的变形的光学元件。光学元件(2)具备：反射镜(21)，具有设置有反射膜的光学面(21a)及与光学面(21a)相反的一侧的非光学面(21b)；以及多个校正膜(23)，设置于非光学面(21b)侧，用于校正反射镜(21)的形状。多个校正膜(23)在非光学面(21b)侧被分开设置于相互不同的多个区域。
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公开(公告)号：CN108227397B
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201711263246.8
申请日：2017-12-05
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置。该决定方法决定矩阵，该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力和设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，该决定方法具有：第一工序，在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器时，取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；第二工序，根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。
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公开(公告)号：CN104516212B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201410497939.3
申请日：2014-09-25
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G02B26/0858 , G02B26/0825 , G03F7/70266
摘要： 本发明提供一种光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。该光学装置用于使镜的反射面变形，所述光学装置包括：底板；多个第一致动器，其各自被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；多个第二致动器，其各自具有比所述第一致动器低的刚度，并且被构造为向与所述反射面相背对的面施加力；传感器，其被构造为检测表示所述多个第一致动器中的各个的驱动状态的信息；以及控制单元，其被构造为基于所述传感器的输出，以将所述反射面的形状改变为目标形状的方式对所述多个第一致动器中的各个的驱动以及所述多个第二致动器中的各个的驱动进行控制。
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