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公开(公告)号:CN1243690C
公开(公告)日:2006-03-01
申请号:CN200310120357.5
申请日:2003-10-29
Applicant: 住友金属矿山株式会社
IPC: C04B35/46 , C04B35/622 , H01B1/08 , C23C14/34
CPC classification number: C04B35/01 , C04B35/64 , C04B2235/3232 , C04B2235/3286 , C04B2235/5445 , C04B2235/6584 , C04B2235/664 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C04B2235/79 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/9653 , H01B1/08
Abstract: 本发明提供了一种用于溅射靶的氧化物烧结体,其中主要成分是氧化铟,并包含使Ti/In的原子比率为0.003至0.120的钛,并且其电阻率为1kΩcm或更小。
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公开(公告)号:CN1498875A
公开(公告)日:2004-05-26
申请号:CN200310120357.5
申请日:2003-10-29
Applicant: 住友金属矿山株式会社
IPC: C04B35/46 , C04B35/622 , H01B1/08 , C23C14/34
CPC classification number: C04B35/01 , C04B35/64 , C04B2235/3232 , C04B2235/3286 , C04B2235/5445 , C04B2235/6584 , C04B2235/664 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C04B2235/79 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/9653 , H01B1/08
Abstract: 本发明提供了一种用于溅射靶的氧化物烧结体,其中主要成分是氧化铟,并包含使Ti/In的原子比率为0.003至0.120的钛,并且其电阻率为1kΩcm或更小。
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