复合钨氧化物膜及其制造方法以及具有该膜的膜形成基材和物品

    公开(公告)号:CN112313359A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201980040623.2

    申请日:2019-06-06

    Abstract: 本发明提供一种复合钨膜及其制造方法,该复合钨膜在可见光区域内保持透明性,同时具有反射红外光而遮蔽的功能、即基于隔热的热线遮蔽功能,并且膜的平滑性高,进而提供利用这些功能的膜形成基材或物品。一种复合钨氧化物膜,以通式MxWyOz(其中,M是从碱金属、碱土金属、Fe、In、Tl、Sn中选择的1种以上的元素,W是钨,O是氧)所表示的组成为主成分,0.001≤x/y≤1、2.2≤z/y≤3.0,实质上不含有机物成分,波长550nm时的透过率为50%以上,波长1400nm时的透过率为30%以下,并且波长1400nm时的反射率为35%以上。

    复合钨氧化物膜及其制造方法、以及具有该膜的膜形成基材和物品

    公开(公告)号:CN112105756A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201980030631.9

    申请日:2019-04-17

    Abstract: 本发明提供一种复合钨膜及其制造方法,该复合钨膜兼具在可见光区域的透明性、在红外光区域的红外光吸收性,具有实质的电波透过性,且除了将光吸收并遮蔽的功能、将光吸收并发热的功能、将光吸收并放出电子的功能之外还具有波长700~1200nm的光的透过性;进一步提供利用这些功能中的任一种或多种功能的膜形成基材或物品。一种复合钨氧化物膜,其为以通式MxWyOz(其中,M为由碱金属、碱土金属、Fe、In、Tl、Sn中选择的1种以上元素,W为钨,O为氧)所表示的组成作为主成分的复合钨氧化物膜,0.001≤x/y≤1、2.2≤z/y≤3.0,实质上不含有机物成分,薄膜电阻为105Ω/□以上,在波长550nm的透过率为50%以上,在波长1400nm的透过率为30%以下,并且在波长1400nm的吸收率为35%以上,在波长800nm的吸收率相对于在波长1400nm的吸收率为80%以下。

Patent Agency Ranking