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公开(公告)号：CN102298265B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201110146567.6
申请日：2003-07-02
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F232/08 , H01L23/29
CPC classification number: G03F7/0382 , C08G59/3218 , C08G61/02 , C08G61/06
Abstract: 本发明涉及共聚物组合物、光刻介电组合物及包含所述光刻介电组合物的电气或电子器件。所述共聚物组合物包括如下共聚物，所述共聚物具有下式I的重复单元：，其中X选自O，-CH2-和-CH2-CH2-；m是从0到5的整数；并且每次出现的R1-R4独立地选自下列基团：H，包含一个或者多个选自O，N和Si的杂原子的C1到C25的线性、支链和环状烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基；包含环氧官能团的基团；-(CH2)nC(O)OR5R5；-(CH2)nC(O)OR6，-(CH2)nOR6；-(CH2)nOC(O)R6；-(CH2)nC(O)R6；(CH2)nOC(O)OR6R6；以及R1，R2，R3和R4中的任意两个基团的组合通过连接基团连接起来。一部分具有结构式I的重复单元含有至少一个环氧官能团侧基。所述光刻介电组合物可用于形成基质上的光刻层。
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公开(公告)号：CN102298265A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110146567.6
申请日：2003-07-02
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F232/08 , H01L23/29
CPC classification number: G03F7/0382 , C08G59/3218 , C08G61/02 , C08G61/06
Abstract: 本发明涉及共聚物组合物、光刻介电组合物及包含所述光刻介电组合物的电气或电子器件。所述共聚物组合物包括如下共聚物，所述共聚物具有下式I的重复单元：，其中X选自O，-CH2-和-CH2-CH2-；m是从0到5的整数；并且每次出现的R1-R4独立地选自下列基团：H，包含一个或者多个选自O，N和Si的杂原子的C1到C25的线性、支链和环状烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基；包含环氧官能团的基团；-(CH2)nC(O)OR5R5；-(CH2)nC(O)OR6，-(CH2)nOR6；-(CH2)nOC(O)R6；-(CH2)nC(O)R6；(CH2)nOC(O)OR6R6；以及R1，R2，R3和R4中的任意两个基团的组合通过连接基团连接起来。一部分具有结构式I的重复单元含有至少一个环氧官能团侧基。所述光刻介电组合物可用于形成基质上的光刻层。
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公开(公告)号：CN1666150A
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN03815809.4
申请日：2003-07-02
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F232/00 , C08G59/00
CPC classification number: G03F7/0382 , C08G59/3218 , C08G61/02 , C08G61/06
Abstract: 包括共聚物的共聚物组合物，所述共聚物具有式I的重复单元，其中X选自O，－CH2－，和－CH2－CH2－；m是从0到5的整数；并且每次出现的R1－R4独立地选自下列基团：H，包含一个或者多个选自O，N和Si的杂原子的C1到C25的线性，支链和环烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基；包含环氧官能团的基团；－(CH2)nC(O)OR5R5；－(CH2)nC(O)OR6，－(CH2)nOR6；－(CH2)nOC(O)R6；－(CH2)nC(O)R6；(CH2)nOC(O)OR6R6；以及通过连接基团连接起来的两个R1，R2，R3和的任一组合。一部分具有结构式I的重复单元含有至少一个环氧官能团侧基。共聚组合物可以包含在经光子形成光刻介电组合物中催化剂的物质中，所述光刻介电组合物可用于形成基质上的光刻层。
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