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公开(公告)号：CN112703262B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201980061110.X
申请日：2019-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C22C29/16 , B23B27/14 , C04B35/5831 , C22C1/05
Abstract: 所述立方氮化硼烧结体包含大于等于85体积％且小于100体积％的立方氮化硼颗粒，并且余量为结合剂。结合剂包含WC、Co和Al化合物，并且结合剂包含W2Co21B6。当将IA定义为立方氮化硼颗粒的(111)面的X射线衍射强度，将IB定义为WC的(100)面的X射线衍射强度，并且将IC定义为W2Co21B6的(420)面的X射线衍射强度时，IC与IA的比IC/IA大于0且小于0.10，并且IC与IB的比IC/IB大于0且小于0.40。
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公开(公告)号：CN116375479A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310344504.4
申请日：2016-04-20
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , B23B27/00
Abstract: 根据本发明的烧结体包含第一材料和立方氮化硼，其中该第一材料为部分稳定的ZrO2，其中5体积％至90体积％的Al2O3分散在晶粒内、或分散在晶粒的界面中。
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公开(公告)号：CN116056822A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180058436.4
申请日：2021-07-30
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14
Abstract: 立方晶氮化硼烧结体具备70体积％以上且小于100体积％的立方晶氮化硼颗粒和结合材料，其中，所述结合材料作为构成元素而包含选自由钛、锆、钒、铌、铪、钽、铬、铼、钼以及钨组成的群组中的至少一种第一金属元素、钴、以及铝，所述立方晶氮化硼烧结体具有第一界面区域，所述第一界面区域由被所述立方晶氮化硼颗粒与所述结合材料的界面和通过从所述界面向所述结合材料侧离开10nm的地点的第一假想线夹着的区域构成，在将所述第一界面区域中所述第一金属元素中以最高浓度存在的元素作为第一元素的情况下，所述第一界面区域中的所述第一元素的原子浓度高于所述第一界面区域以外的所述结合材料中的所述第一元素的原子浓度。
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公开(公告)号：CN114787104A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201980102882.3
申请日：2019-12-16
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体，其具备超过80体积％且小于100体积％的立方晶氮化硼颗粒和超过0体积％且小于20体积％的结合相，其中，所述结合相包含选自由单质、合金、金属间化合物组成的群组中的至少一种，所述单质、合金、金属间化合物选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组，或者，所述结合相包含选自由化合物以及源自所述化合物的固溶体组成的群组中的至少一种，所述化合物由选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组中的至少一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素组成，或者，所述结合相包含选自由单质、合金、金属间化合物组成的群组中的至少一种，所述单质、合金、金属间化合物选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组，并且，所述结合相包含选自由化合物以及源自所述化合物的固溶体组成的群组中的至少一种，所述化合物由选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组中的至少一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素组成，所述立方晶氮化硼颗粒的位错密度为3×1017/m2以上且1×1020/m2以下。
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公开(公告)号：CN112703262A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201980061110.X
申请日：2019-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C22C29/16 , B23B27/14 , C04B35/5831 , C22C1/05
Abstract: 所述立方氮化硼烧结体包含大于等于85体积％且小于100体积％的立方氮化硼颗粒，并且余量为结合剂。结合剂包含WC、Co和Al化合物，并且结合剂包含W2Co21B6。当将IA定义为立方氮化硼颗粒的(111)面的X射线衍射强度，将IB定义为WC的(100)面的X射线衍射强度，并且将IC定义为W2Co21B6的(420)面的X射线衍射强度时，IC与IA的比IC/IA大于0且小于0.10，并且IC与IB的比IC/IB大于0且小于0.40。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108778583B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201680082970.8
申请日：2016-12-02
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 根据本发明的表面被覆cBN烧结体包括cBN烧结体和覆盖cBN烧结体的表面的覆膜。cBN烧结体包含cBN颗粒和结合剂。cBN烧结体中cBN颗粒的比例大于80体积％但小于或等于98体积％；结合剂包含第一化合物，该第一化合物由Al和Cr中的至少一种元素，以及选自由N、B和O组成的组中的至少一种元素形成。覆膜包括与cBN烧结体接触的A层。该A层由Alx1Cry1Mz1Ca1Nb1Oc1构成(其中M为选自Ti、V、Nb和Si中的一种或多种元素；0.25≤x1≤0.75、0.25≤y1≤0.75、0≤z1≤0.5；(x1+y1+z1＝1；0≤a1≤0.5；0.5≤b1≤1；0≤c≤0.1；且(a1+b1+c1)＝1)。
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公开(公告)号：CN105102164B
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201480020510.3
申请日：2014-11-25
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: C04B41/87 , C01B21/0648 , C01P2004/61 , C04B35/58014 , C04B35/581 , C04B35/5831 , C04B35/645 , C04B41/009 , C04B41/5062 , C04B41/5068 , C04B41/52 , C04B41/89 , C04B2235/3856 , C04B2235/386 , C04B2235/3865 , C04B2235/3886 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C23C30/005 , C04B41/4529 , C04B41/455 , C04B41/5063 , C04B41/5066 , C04B41/5061
Abstract: 根据本发明的切削工具包括基材和形成于该基材上的覆膜。所述基材为含有30体积％至80体积％的立方氮化硼、以及结合剂的烧结体。基材中与覆膜接触的表面具有多个由立方氮化硼形成的凸部和多个由结合剂形成的凹部。基材中与覆膜接触的表面的表面粗糙度(Rsub)为0.1μm至0.4μm。覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rsurf)为0μm至0.15μm。覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rasurf)为0μm至0.1μm。基材中与覆膜接触的表面的表面粗糙度(Rsub)大于覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rsurf)。
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公开(公告)号：CN104520067B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201380040327.5
申请日：2013-12-27
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: B24B3/34 , B23B27/145 , B23B27/18 , B23B2200/0447 , B23B2200/049 , B23B2200/085 , B23B2200/242 , B23B2200/283 , B23B2222/28 , B23B2226/125 , Y10T407/24
Abstract: 本发明提供能显著改善cBN切削工具的中心高度的精度且还能使负倒棱的倾角和宽度足够小的cBN切削工具制造方法和cBN切削工具，cBN切削工具包括位于金属基体的角部的cBN烧结体。在通过用位置和方向均能控制的磨床的卡盘夹持工具的金属基体来保持cBN切削工具时，通过将cBN烧结体按压在磨床的磨石的端面上来对形成在cBN烧结体上的后刀面和前刀面进行磨削。执行所述磨削使得磨削物体基本上为cBN烧结体。此外，在前刀面的磨削中，cBN烧结体的前刀面从金属基体的顶面凹陷下去或者仅磨削从金属基体前刀面突出的cBN烧结体。该方法构造为在不解除卡盘对工具的夹持的情况下进行所述作业。
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公开(公告)号：CN105073311B9
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201480018897.9
申请日：2014-02-26
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: C23C14/0641 , B23C2226/12 , B23C2228/10 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C14/0664 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , C04B35/5831 , C04B41/4529 , C04B41/5062 , C04B41/5063 , C04B41/5066 , C04B41/5068 , C04B41/524 , C04B41/5061
Abstract: 本发明涉及一种表面被覆氮化硼烧结体工具，其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体表面上的覆层(10)。覆层(10)包括B层(30)，所述B层(30)由交替层叠的两种以上具有不同组成的薄膜层(31,32)的一层或多层构成。作为薄膜层的构成层之一的薄膜层B1(31)的厚度为大于30nm且小于200nm。构成薄膜层且不同于薄膜层B1(31)的薄膜层B2(32)由交替层叠的两种以上具有不同组成的化合物层(32A、32B)的一层或多层构成，各种化合物层的层数为1以上，化合物层(32A、32B)各自具有0.5nm以上且小于30nm的厚度。
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公开(公告)号：CN105102164A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480020510.3
申请日：2014-11-25
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: C04B41/87 , C01B21/0648 , C01P2004/61 , C04B35/58014 , C04B35/581 , C04B35/5831 , C04B35/645 , C04B41/009 , C04B41/5062 , C04B41/5068 , C04B41/52 , C04B41/89 , C04B2235/3856 , C04B2235/386 , C04B2235/3865 , C04B2235/3886 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C23C30/005 , C04B41/4529 , C04B41/455 , C04B41/5063 , C04B41/5066 , C04B41/5061
Abstract: 根据本发明的切削工具包括基材和形成于该基材上的覆膜。所述基材为含有30体积％至80体积％的立方氮化硼、以及结合剂的烧结体。基材中与覆膜接触的表面具有多个由立方氮化硼形成的凸部和多个由结合剂形成的凹部。基材中与覆膜接触的表面的表面粗糙度(Rsub)为0.1μm至0.4μm。覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rsurf)为0μm至0.15μm。覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rasurf)为0μm至0.1μm。基材中与覆膜接触的表面的表面粗糙度(Rsub)大于覆膜的最外表面的表面粗糙度(Rsurf)。
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