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发明公开
无光致抗蚀剂光刻、光加工工具及使用VUV或深UV灯的方法审中-实审

公开(公告)号：CN112823314A

公开(公告)日：2021-05-18

申请号：CN201980066034.1

申请日：2019-08-13

Applicant: 伊利诺伊大学受托管理委员会

Inventor： J.G.埃登 , D.西弗斯 , A.米罗诺夫 , J.金

IPC: G03F7/20 , H01L21/67

Abstract: 一种制造工具具有至少一个平坦灯光子源或平坦灯的阵列，所述至少一个平坦灯光子源用于从表面非热烧蚀聚合物材料。不需要光致抗蚀剂，并且通过在灯和要加工的表面之间插入光刻有机掩模来确定期望的光烧蚀图案。本发明的方法对有机聚合物进行图案化，并且可以使用在基板上的有机聚合物层中建立的图案来对基板进行图案化，并且还可以通过用来自微等离子体阵列的光子破坏沉积前驱体中的键来在图案中沉积材料。另一种方法将有机聚合物材料转变为具有亲水表面。本发明的工具可以具有与典型的平装书相当的宽度和深度以及与咖啡杯相当的高度。

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