公开(公告)号：CN108885165A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780021252.4

申请日：2017-03-29

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 小林京平 ,  上野凉 ,  阿部真一 ,  坂井久 ,  永田优 ,  安田隆则

IPC: G01N19/00 ,  G01L9/00 ,  G01N5/02

CPC classification number: G01L9/00 ,  G01N5/02 ,  G01N19/00

Abstract: 应力传感器具备：膜片；中间层，被配置在膜片的面上；感应膜，被配置在中间层上；和压电电阻元件，位于膜片中与中间层的外缘接触的区域。

公开(公告)号：CN108885165B

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201780021252.4

申请日：2017-03-29

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 小林京平 ,  上野凉 ,  阿部真一 ,  坂井久 ,  永田优 ,  安田隆则

IPC: G01N19/00 ,  G01L9/00 ,  G01N5/02

Abstract: 应力传感器具备：膜片；中间层，被配置在膜片的面上；感应膜，被配置在中间层上；和压电电阻元件，位于膜片中与中间层的外缘接触的区域。

公开(公告)号：CN110234977A

公开(公告)日：2019-09-13

申请号：CN201780066524.2

申请日：2017-10-24

Applicant: 国立研究开发法人物质材料研究机构 ,  京瓷株式会社

Inventor： 吉川元起 ,  柴弘太 ,  今村岳 ,  安田隆则 ,  小林京平 ,  坂井久

IPC: G01N19/00 ,  G01N27/00 ,  G01N27/22 ,  G01N5/02

Abstract: 本发明提供一种能够通过相对简单的手法去除附着于气体传感器的成分、易于将气体传感器信号的基线复位到恒定状态的气体传感器装置和气体成分去除方法。本发明的一个实施方式的气体传感器装置具备气体传感器和洗涤机构，该洗涤机构包含用于洗涤气体传感器的液体，气体传感器包括：传感器主体，能够检测存在于气相中或液相中的成分的特性参数；以及感应膜，包覆于传感器主体的表面且对液体具有耐性。