用于蚀刻、剥离和清洁应用的胺氧化物

    公开(公告)号:CN115885027A

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202180052444.8

    申请日:2021-08-16

    Abstract: 本发明涉及一种清洁微电子基材如半导体器件的方法,所述方法通过在足以清洁微电子基材的温度下使所述基材与选自N,N‑二甲基乙醇胺N‑氧化物、三乙醇胺N‑氧化物、乙胺,2,2′‑氧双[N,N‑二甲基‑,N,N′‑二氧化物]、1‑甲基吡咯烷N‑氧化物、N,N‑二甲基环己胺N‑氧化物和它们的混合物的胺氧化物接触一定时间进行。

    生产无水季铵碱
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118338785A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202280080072.4

    申请日:2022-12-02

    Inventor: 周晖 K·张

    Abstract: 通过使氧化烯与具有式R1R2R3N的叔胺反应来合成具有式(NR1R2R3R4)OH的无水季铵碱的方法,其中R1、R2和R3是相同或不同的并且各自单独地选自包括直链烷基和环烷基的C1‑C10烷基、C1‑C10羟烷基、C6‑C12芳基;其中R1、R2、R3和R4彼此相同或不同并且各自单独地选自H、包括直链烷基或环烷基的C1‑C10烷基和C6‑C12芳基;以及具有无水季铵碱的制剂。

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