-
公开(公告)号：CN103261238A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180061231.8
申请日：2011-12-02
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F2/50 , C08F271/02 , H01L21/027
CPC classification number: C08F226/12 , B05D3/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/50 , C08J3/28 , C09D4/00 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/032 , H01L21/3081 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种固化物的耐蚀刻性、耐热性优异的光压印用树脂组合物及使用该树脂组合物的图案形成方法。该光压印用树脂组合物包含光固化性单体(A)、光固化性单体(B)和光聚合引发剂(C)，所述光固化性单体(A)含有至少一种下式(1)表示的咔唑化合物，所述光固化性单体(B)含有下式(2)、式(3)和式(4)表示的化合物中的至少一种，且光固化性单体(A)和光固化性单体(B)的重量比(光固化性单体(A)的重量/光固化性单体(B)的重量)为30/70～87/13。(化1)式(1)：R1表示-CH=CH2等，R2、R3表示氢等。(化2)式(2)：R4、R5表示-O-CH=CH2等，R6、R7表示氢等。(化3)式(3)：X是-O-CH=CH2等，A1～A4是氢原子等。m、n、o表示0或1。(化4)式(4)：R8、R9表示-O-CH=CH2等，p表示0或1以上的整数。
-
公开(公告)号：CN112041353A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980017644.2
申请日：2019-02-20
Applicant: 丸善石油化学株式会社
Abstract: 通过以下的式(1)(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为1～6的脂肪族烃基，m表示0～5的整数，n表示0～4的整数)所表示的化合物，提供可用于灵敏度、分辨率、蚀刻耐性优异的抗蚀剂用树脂等的化合物。
-
公开(公告)号：CN103764699B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201280042467.1
申请日：2012-09-25
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F226/12 , C08F2/50 , C08F16/32 , C08F220/10 , G02B1/04 , G02B5/30
CPC classification number: C09D139/04 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08F226/12 , G02B1/04 , G02B1/10 , G02B1/12 , C08L39/00 , C08L45/00 , C08F2220/1883 , C08F2222/1026 , C08F226/08 , C08F2220/301
Abstract: 本发明为光学元件材料及其制造方法，该光学元件材料通过使光压印用树脂组合物固化而形成，固化时的固化收缩率为4.5％以下；所述光压印用树脂组合物中的式(1)的光固化性单体(A)与式(2)的光固化性单体(B)的含有重量比率为30/70～87/13、且光聚合引发剂(C)相对于单体(A)和单体(B)的总重量100重量份为0.01～30重量份。式(1)中，R1表示-CH=CH2、-CH2CH2-O-CH=CH2、-CH2-C(CH3)=CH2或缩水甘油基；R2、R3独立地表示氢或碳数1～4的烷基；式(2)中，R4、R5独立地表示-O-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CH=CH2、-O-CO-CH=CH2、-O-CO-C(CH3)=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2或缩水甘油醚基；R6、R7独立地表示氢或碳数1～4的烷基。
-
公开(公告)号：CN111902437A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980017718.2
申请日：2019-02-20
Applicant: 丸善石油化学株式会社
Abstract: 通过以下的式(1)(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为1～6的脂肪族烃基，m表示0～5的整数，n表示0～4的整数)所表示的化合物，提供可用于灵敏度、分辨率、蚀刻耐性优异的抗蚀剂用树脂等的化合物。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103261238B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201180061231.8
申请日：2011-12-02
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F2/50 , C08F271/02 , H01L21/027
CPC classification number: C08F226/12 , B05D3/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/50 , C08J3/28 , C09D4/00 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/032 , H01L21/3081 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种固化物的耐蚀刻性、耐热性优异的光压印用树脂组合物及使用该树脂组合物的图案形成方法。该光压印用树脂组合物包含光固化性单体(A)、光固化性单体(B)和光聚合引发剂(C)，所述光固化性单体(A)含有至少一种下式(1)表示的咔唑化合物，所述光固化性单体(B)含有下式(2)、式(3)和式(4)表示的化合物中的至少一种，且光固化性单体(A)和光固化性单体(B)的重量比(光固化性单体(A)的重量/光固化性单体(B)的重量)为30/70～87/13。(化1)式(1)：(R1表示-CH=CH2等，R2、R3表示氢等。)(化2)式(2)：(R4、R5表示-O-CH=CH2等，R6、R7表示氢等。)(化3)式(3)：(X是-O-CH=CH2等，A1～A4是氢原子等。m、n、o表示0或1。)(化4)式(4)：(R8、R9表示-O-CH=CH2等，p表示0或1以上的整数)。
-
公开(公告)号：CN116917262A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280017394.4
申请日：2022-02-25
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C07C43/315
Abstract: 本发明的课题在于提供抗蚀剂膜的裂纹被抑制、能够形成表面状态良好的图案的厚膜用抗蚀剂组合物、以及能够实现其的缩醛化合物。缩醛化合物、及包含其的厚膜抗蚀剂用组合物，所述缩醛化合物由下述式(1)表示。式(1)中，R1表示碳原子数1～12的烷基、碳原子数5～12的环烷基或碳原子数1～12的酰基。n为1～5的整数。m表示2～4的整数。Ar为从元数为m元的多元酚的羟基中除去氢原子而得的残基。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN111902437B
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN201980017718.2
申请日：2019-02-20
Applicant: 丸善石油化学株式会社
Abstract: 通过以下的式(1),(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为1～6的脂肪族烃基，m表示0～5的整数，n表示0～4的整数)所表示的化合物，提供可用于灵敏度、分辨率、蚀刻耐性优异的抗蚀剂用树脂等的化合物。
-
公开(公告)号：CN112041353B
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN201980017644.2
申请日：2019-02-20
Applicant: 丸善石油化学株式会社
Abstract: 通过以下的式(1)(式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为1～6的脂肪族烃基，m表示0～5的整数，n表示0～4的整数)所表示的化合物，提供可用于灵敏度、分辨率、蚀刻耐性优异的抗蚀剂用树脂等的化合物。
-
公开(公告)号：CN103764699A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280042467.1
申请日：2012-09-25
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F226/12 , C08F2/50 , C08F16/32 , C08F220/10 , G02B1/04 , G02B5/30
CPC classification number: C09D139/04 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08F226/12 , G02B1/04 , G02B1/10 , G02B1/12 , C08L39/00 , C08L45/00 , C08F2220/1883 , C08F2222/1026 , C08F226/08 , C08F2220/301
Abstract: 本发明为光学元件材料及其制造方法，该光学元件材料通过使光压印用树脂组合物固化而形成，固化时的固化收缩率为4.5％以下；所述光压印用树脂组合物中的式(1)的光固化性单体(A)与式(2)的光固化性单体(B)的含有重量比率为30/70～87/13、且光聚合引发剂(C)相对于单体(A)和单体(B)的总重量100重量份为0.01～30重量份。式(1)中，R1表示-CH=CH2、-CH2CH2-O-CH=CH2、-CH2-C(CH3)=CH2或缩水甘油基；R2、R3独立地表示氢或碳数1～4的烷基；式(2)中，R4、R5独立地表示-O-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CH=CH2、-O-CO-CH=CH2、-O-CO-C(CH3)=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-CH=CH2、-O-CH2CH2-O-CO-C(CH3)=CH2或缩水甘油醚基；R6、R7独立地表示氢或碳数1～4的烷基。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.022 seconds)
