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公开(公告)号：CN107849167A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680036639.2
申请日：2016-04-15
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F6/00 , C08F212/14 , C08F297/00 , C08G8/20
Abstract: 本发明提供制造金属离子杂质的含量少的电子材料用聚合物的方法及利用该方法得到的电子材料用聚合物。本发明的电子材料用聚合物的制造方法包括下述工序：聚合工序，使单体进行聚合反应而得到聚合物；和纯化工序，向包含聚合物的聚合物溶液中添加具有0以下的pKa的强酸，然后实施离子交换处理，降低金属离子杂质浓度。
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公开(公告)号：CN114080404B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202080050200.1
申请日：2020-08-06
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F8/12 , G03F7/039
Abstract: 本发明的课题是提供聚合物及其制造方法，所述聚合物为包含来源于对羟基苯乙烯的结构单元、和具有羧酸被缩醛基保护的结构的结构单元的聚合物，并且在制造过程中由于缩醛基的脱离、缩醛基的移动而产生的结构单元极少。本发明的解决手段为：在共轭酸的pKa为12以上的碱的存在下，于50℃以下，使含有包含来源于对乙酰氧基苯乙烯的结构单元、和具有羧酸被缩醛基保护的结构的结构单元的聚合物的溶液进行脱保护反应。
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公开(公告)号：CN116917262A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280017394.4
申请日：2022-02-25
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C07C43/315
Abstract: 本发明的课题在于提供抗蚀剂膜的裂纹被抑制、能够形成表面状态良好的图案的厚膜用抗蚀剂组合物、以及能够实现其的缩醛化合物。缩醛化合物、及包含其的厚膜抗蚀剂用组合物，所述缩醛化合物由下述式(1)表示。式(1)中，R1表示碳原子数1～12的烷基、碳原子数5～12的环烷基或碳原子数1～12的酰基。n为1～5的整数。m表示2～4的整数。Ar为从元数为m元的多元酚的羟基中除去氢原子而得的残基。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107849167B
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN201680036639.2
申请日：2016-04-15
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F6/00 , C08F212/14 , C08F297/00 , C08G8/20
Abstract: 本发明提供制造金属离子杂质的含量少的电子材料用聚合物的方法及利用该方法得到的电子材料用聚合物。本发明的电子材料用聚合物的制造方法包括下述工序：聚合工序，使单体进行聚合反应而得到聚合物；和纯化工序，向包含聚合物的聚合物溶液中添加具有0以下的pKa的强酸，然后实施离子交换处理，降低金属离子杂质浓度。
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公开(公告)号：CN118139900A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202380014141.6
申请日：2023-05-23
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F8/12 , C08F212/04 , C08F220/12 , G03F7/039
Abstract: [课题]提供保存稳定性优异、高敏感度、高分辨力的抗蚀剂用聚合物。[解决手段]基于本发明的聚合物包含具有酚式羟基的结构单元和具有羧酸被缩醛基保护的结构的结构单元。
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公开(公告)号：CN113227178B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202080007446.0
申请日：2020-09-30
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F257/00 , C08F216/14 , C08F216/12 , G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供用于高敏感度光刻技术的交联型聚合物。本发明的解决手段为：本发明的在显影液中的溶解性因酸的作用而改变的抗蚀剂用交联型聚合物中，具有聚合物中的至少一部分酚羟基被以下的式(1)表示的基团保护的结构，并且，具有聚合物中的至少一部分酚羟基被以下的式(2)表示的基团保护、且聚合物彼此被交联的结构。式(1)中，R1表示碳原子数为1至5的烷基，n表示1至5的整数；*表示与从酚羟基除去氢原子而得的残基的键合部。式(2)中，R2表示可包含脂肪族环式基团的碳原子数为2至17的二价饱和烃基、或包含芳香环的碳原子数为6至17的二价烃基；*表示与从酚羟基除去氢原子而得的残基的键合部。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114080404A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202080050200.1
申请日：2020-08-06
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F8/12 , G03F7/039
Abstract: 本发明的课题是提供聚合物及其制造方法，所述聚合物为包含来源于对羟基苯乙烯的结构单元、和具有羧酸被缩醛基保护的结构的结构单元的聚合物，并且在制造过程中由于缩醛基的脱离、缩醛基的移动而产生的结构单元极少。本发明的解决手段为：在共轭酸的pKa为12以上的碱的存在下，于50℃以下，使含有包含来源于对乙酰氧基苯乙烯的结构单元、和具有羧酸被缩醛基保护的结构的结构单元的聚合物的溶液进行脱保护反应。
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公开(公告)号：CN113227178A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202080007446.0
申请日：2020-09-30
Applicant: 丸善石油化学株式会社
IPC: C08F257/00 , C08F216/14 , C08F216/12 , G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供用于高敏感度光刻技术的交联型聚合物。本发明的解决手段为：本发明的在显影液中的溶解性因酸的作用而改变的抗蚀剂用交联型聚合物中，具有聚合物中的至少一部分酚羟基被以下的式(1)表示的基团保护的结构，并且，具有聚合物中的至少一部分酚羟基被以下的式(2)表示的基团保护、且聚合物彼此被交联的结构。式(1)中，R1表示碳原子数为1至5的烷基，n表示1至5的整数；*表示与从酚羟基除去氢原子而得的残基的键合部。式(2)中，R2表示可包含脂肪族环式基团的碳原子数为2至17的二价饱和烃基、或包含芳香环的碳原子数为6至17的二价烃基；*表示与从酚羟基除去氢原子而得的残基的键合部。
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