-
公开(公告)号:CN1306560C
公开(公告)日:2007-03-21
申请号:CN02802830.9
申请日:2002-09-02
Applicant: 丰田合成株式会社
CPC classification number: H01L33/40 , H01L21/28575 , H01L29/2003 , H01L29/452 , H01L29/456 , H01L33/32
Abstract: 本发明的目的在于使n-电极和由第III族氮化物化合物半导体形成的n-型层之间的电阻极大地减少。根据本发明,n-电极是由下列电极材料形成的:第一电极材料,由至少一种选自钒(V)、钛(Ti)、锆(Zr)、和钨(W)的金属构成;第二电极材料,由至少一种选自钯(Pd)、铂(Pt)、金(Au)、银(Ag)和铜(Cu)的金属构成;和第三电极材料,由至少一种选自铝(Al)、硅(Si)和锗(Ge)的金属构成。
-
公开(公告)号:CN1473356A
公开(公告)日:2004-02-04
申请号:CN02802830.9
申请日:2002-09-02
Applicant: 丰田合成株式会社
CPC classification number: H01L33/40 , H01L21/28575 , H01L29/2003 , H01L29/452 , H01L29/456 , H01L33/32
Abstract: 本发明的目的在于使n-电极和由第III族氮化物化合物半导体形成的n-型层之间的电阻极大地减少。根据本发明,n-电极是由下列电极材料形成的:第一电极材料,由至少一种选自钒(V)、钛(Ti)、锆(Zr)、和钨(W)的金属构成;第二电极材料,由至少一种选自钯(Pd)、铂(Pt)、金(Au)、银(Ag)和铜(Cu)的金属构成;和第三电极材料,由至少一种选自铝(Al)、硅(Si)和锗(Ge)的金属构成。
-