一种基于三离轴抛物面镜和双参考黑体的发射率测量装置

    公开(公告)号:CN105738295A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201610202075.7

    申请日:2016-04-01

    CPC classification number: G01N21/25

    Abstract: 本发明公开了一种基于三离轴抛物面镜和双参考黑体的发射率测量装置,包括:光谱仪(1)、高温黑体加热装置(2)、样品加热装置(3)、高温参考黑体(4)、低温参考黑体(5)、水平位移平台(6)、电控转台(7)、位移控制系统(8)、计算机(9)、光阑(10)、低温黑体加热装置(11)、离轴剖物面镜Ⅰ(12)、离轴剖物面镜Ⅱ(13)和离轴剖物面镜Ⅲ(14)。本发明实现了1μm~14μm的光谱范围、50℃~800℃温度范围的材料法向光谱发射率测量,该装置减小了仪器短期漂移及环境变化对于测量结果的影响,提高了测量的效率和测量不确定度。

    一种负温及常温不透明材料发射率测量装置

    公开(公告)号:CN105784631B

    公开(公告)日:2018-10-30

    申请号:CN201610202887.1

    申请日:2016-04-01

    Abstract: 本发明公开了一种负温及常温不透明材料发射率测量装置。它包括,真空低温仓、低温恒温循环系统、光学系统、电控平移台和计算机控制与测量系统。其测量原理为利用探测器将被测目标与相同温度下的等温黑体的辐射能量进行测量和比较,从而得到材料在不同光谱下的光谱发射率。本发明可以实现7至13μm典型光谱范围、‑50℃~50℃温度范围的材料法向光谱发射率测量。所述光学系统和测量系统均处在真空低温环境中,避免了大气衰减对发射率测量影响,拓展了材料发射率测量的下限,提高了测量结果的不确定度。

    一种负温及常温不透明材料发射率测量装置

    公开(公告)号:CN105784631A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201610202887.1

    申请日:2016-04-01

    CPC classification number: G01N21/3563

    Abstract: 本发明公开了一种负温及常温不透明材料发射率测量装置。它包括,真空低温仓、低温恒温循环系统、光学系统、电控平移台和计算机控制与测量系统。其测量原理为利用探测器将被测目标与相同温度下的等温黑体的辐射能量进行测量和比较,从而得到材料在不同光谱下的光谱发射率。本发明可以实现7至13μm典型光谱范围、?50℃~50℃温度范围的材料法向光谱发射率测量。所述光学系统和测量系统均处在真空低温环境中,避免了大气衰减对发射率测量影响,拓展了材料发射率测量的下限,提高了测量结果的不确定度。

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