公开(公告)号：CN111649693A

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN202010464683.1

申请日：2020-05-27

申请人： 中国科学院微电子研究所

发明人： 李璟 ,  杨光华 ,  王丹 ,  丁敏侠 ,  张清洋 ,  朱世懂 ,  冯磊 ,  折昌美

IPC分类号： G01B11/25

摘要： 本公开提供了一种样品形貌测量装置及方法。所述装置包括：顺次设置的光源组件(101)、照明组件(102)、投影光栅组件(103)、光阑组件(104)、投影光学组件(105)，顺次设置的探测光学组件(107)、探测光栅组件(108)、数据采集组件(109)，以及设置在投影光学组件(105)和探测光学组件(107)之间光路上的运动台(110)，待测样品(106)放置在运动台(110)上。利用光阑组件筛选出低衍射级次信号来测量样品高度，保证测量范围，并根据测量结果选择高衍射级次信号再次测量样品高度，提高测量精度。

公开(公告)号：CN112833790A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN202110084779.X

申请日：2021-01-21

申请人： 中国科学院微电子研究所

发明人： 李璟 ,  杨光华 ,  丁敏侠 ,  冯磊 ,  朱世懂

IPC分类号： G01B11/00

摘要： 一种减小相位光栅非对称性对位置测量精度影响的方法，包括以下步骤：根据相位光栅设计值和加工精度，确定非对称性变化范围，进而确定非对称性光栅结构；建立非对称性光栅仿真模型；将所述非对称性光栅结构输入到所述非对称性光栅仿真模型中，仿真非对称性变化范围内，各衍射级次的位置误差曲线；根据获得的各衍射级次位置误差差异，确定各衍射级次的权重，减小非对称性变化的影响。本发明提出的方法不需要测量光栅的形貌，只需根据加工精度确定光栅非对称性变化范围，就可以减小该范围内非对称性变化对位置测量精度的影响。

公开(公告)号：CN112833790B

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202110084779.X

申请日：2021-01-21

申请人： 中国科学院微电子研究所

发明人： 李璟 ,  杨光华 ,  丁敏侠 ,  冯磊 ,  朱世懂

IPC分类号： G01B11/00

摘要： 一种减小相位光栅非对称性对位置测量精度影响的方法，包括以下步骤：根据相位光栅设计值和加工精度，确定非对称性变化范围，进而确定非对称性光栅结构；建立非对称性光栅仿真模型；将所述非对称性光栅结构输入到所述非对称性光栅仿真模型中，仿真非对称性变化范围内，各衍射级次的位置误差曲线；根据获得的各衍射级次位置误差差异，确定各衍射级次的权重，减小非对称性变化的影响。本发明提出的方法不需要测量光栅的形貌，只需根据加工精度确定光栅非对称性变化范围，就可以减小该范围内非对称性变化对位置测量精度的影响。