一种金刚石-氧化铝复合薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114908319B

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202210429348.7

    申请日:2022-04-22

    Abstract: 本发明公开了一种金刚石‑氧化铝复合薄膜制备方法,包括采用MPCVD方法在硅基底表面沉积金刚石涂层后,再进行退火得到金刚石/硅基底,将所述金刚石/硅基底放入氢氟酸溶液进行刻蚀得到初始自支撑金刚石薄膜,将所述初始自支撑金刚石薄膜进行抛光至表面粗糙度<500nm,得到自支撑金刚石薄膜;采用磁控溅射方法,以氧化铝靶为溅射靶材,氩气为溅射气体,在所述自支撑金刚石薄膜表面沉积氧化铝得到金刚石‑氧化铝复合薄膜,其中,溅射功率为150–300W,沉积温度为400–800℃,沉积时间为10–30h。该方法简单、高效,且制备得到的金刚石‑氧化铝复合薄膜具有较高的抗击穿性能和较高的结合力。

    一种导电自润滑复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113832447A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202111049640.8

    申请日:2021-09-08

    Abstract: 本发明公开了一种导电自润滑复合涂层,包括基体,基体表面由内而外依次为金刚石层、类金刚石层和石墨烯层。本发明通过热丝化学气相沉积法制备金刚石层,并对金刚石层进行激光处理原位生成类金刚石层,进一步在类金刚石层上通过化学键合‑热处理制备石墨烯层,制备方法简单、重复性好。多层协同作用有效缓解了复合涂层的应力,减少了摩擦服役过程中的脆性断裂,实现了复合涂层摩擦性能和功能性的双向优化,最外层的石墨烯层改善了复合涂层的导电性能、自润滑性能和防腐性能,极大的拓宽该导电自润滑复合涂层的服役范围,该导电自润滑复合涂层在流体润滑、边界润滑、干摩擦、高载、高速等服役环境下均具有较低的摩擦系数与磨损率。

    一种设有表面织构化金刚石涂层的动密封环及其制备方法

    公开(公告)号:CN113770536A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111032946.2

    申请日:2021-09-03

    Abstract: 本发明公开了一种设有表面织构化金刚石涂层的动密封环的制备方法,包括以下步骤:(1)在动密封环基体表面通过热丝化学气相沉积金刚石涂层;(2)采用飞秒激光对金刚石涂层进行抛光处理;(3)对抛光后的动密封环基体表面进行激光表面织构化处理。首先,利用本发明热丝化学气相沉积法制得的金刚石涂层致密均匀,结合力强;其次,飞秒激光抛光处理显著降低了金刚石涂层的表面粗糙度,缓解了生长应力,提高了金刚石涂层的可加工性;最后,激光刻蚀织构化处理得到涂层表面排列规则的凹坑或条纹图案,可以提高动密封环承载能力、降低磨粒磨损、延长工件使用寿命。本发明方法制得的设有表面织构化金刚石涂层的动密封环可应用于复杂多变的服役环境。

    一种衰减全内反射光谱仪及其应用

    公开(公告)号:CN108169186A

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201711431316.6

    申请日:2017-12-26

    Abstract: 本发明涉及一种衰减全内反射(ATR)光谱仪及其应用。具体地,本发明公开了一种衰减全内反射ATR光谱仪,所述光谱仪包含一附件,所述附件包含:ATR晶体部件和支撑件,所述支撑件上设有样品槽,所述ATR晶体部件包括ATR晶体;所述样品槽具有可容纳样品的内腔,所述ATR晶体位于所述样品槽的内腔上方,且与所述样品槽连接。本发明还公开了一种使用所述ATR光谱仪进行检测的检测方法。所述ATR光谱仪和所述检测方法特别适合用于易分层液体和/或细菌样品的检测,且所得检测结果具有更高的准确度。

    纳米氧化亚铜颗粒的制备方法以及形貌和粒径调控方法

    公开(公告)号:CN105621473B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201410621156.1

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明提供了一种纳米氧化亚铜颗粒的制备方法。该方法仅以铜盐、强碱、还原剂为原料,在铜盐溶液中先后加入强碱溶液与还原剂溶液而制备,控制铜离子:氢氧根离子:还原剂的摩尔比为1:(2~10):(0.5~10),氢氧根离子的加入速率为0.04mol/h~0.8mol/h,还原剂的加入速率为0.05mol/h~0.8mol/h,能够得到粒径均匀、形貌规整的纳米氧化亚铜,因此降低了成本、简化了制备工艺。另外,通过调控强碱、还原剂的加入速率、强碱、还原剂加入后的反应温度和反应时间,以及还原反应完成后的静置时间实现了对纳米氧化亚铜形貌与粒径的有效调控,其粒径调控范围在300nm~1000nm,形貌调控范围为立方体形、球形、八面体形等形状。

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