公开(公告)号：CN105621473B

公开(公告)日：2017-11-14

申请号：CN201410621156.1

申请日：2014-11-06

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 赵文杰 ,  王佳兴 ,  李赫 ,  曹慧军 ,  乌学东 ,  曾志翔 ,  薛群基

IPC: C01G3/02 ,  B82Y30/00

Abstract: 本发明提供了一种纳米氧化亚铜颗粒的制备方法。该方法仅以铜盐、强碱、还原剂为原料，在铜盐溶液中先后加入强碱溶液与还原剂溶液而制备，控制铜离子：氢氧根离子：还原剂的摩尔比为1:(2～10):(0.5～10)，氢氧根离子的加入速率为0.04mol/h～0.8mol/h，还原剂的加入速率为0.05mol/h～0.8mol/h，能够得到粒径均匀、形貌规整的纳米氧化亚铜，因此降低了成本、简化了制备工艺。另外，通过调控强碱、还原剂的加入速率、强碱、还原剂加入后的反应温度和反应时间，以及还原反应完成后的静置时间实现了对纳米氧化亚铜形貌与粒径的有效调控，其粒径调控范围在300nm～1000nm，形貌调控范围为立方体形、球形、八面体形等形状。

公开(公告)号：CN105621473A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201410621156.1

申请日：2014-11-06

Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所

Inventor： 赵文杰 ,  王佳兴 ,  李赫 ,  曹慧军 ,  乌学东 ,  曾志翔 ,  薛群基

IPC: C01G3/02 ,  B82Y30/00

Abstract: 本发明提供了一种纳米氧化亚铜颗粒的制备方法。该方法仅以铜盐、强碱、还原剂为原料，在铜盐溶液中先后加入强碱溶液与还原剂溶液而制备，控制铜离子：氢氧根离子：还原剂的摩尔比为1:(2～10):(0.5～10)，氢氧根离子的加入速率为0.04mol/h～0.8mol/h，还原剂的加入速率为0.05mol/h～0.8mol/h，能够得到粒径均匀、形貌规整的纳米氧化亚铜，因此降低了成本、简化了制备工艺。另外，通过调控强碱、还原剂的加入速率、强碱、还原剂加入后的反应温度和反应时间，以及还原反应完成后的静置时间实现了对纳米氧化亚铜形貌与粒径的有效调控，其粒径调控范围在300nm～1000nm，形貌调控范围为立方体形、球形、八面体形等形状。