一种钽基抗腐蚀防护复合涂层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN111647862B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202010600436.X

    申请日:2020-06-28

    Abstract: 本发明公开了一种钽基抗腐蚀防护复合涂层及其制备方法与应用。所述制备方法包括:所述复合涂层主要由Ta层和Ta(Al\Si)C层交替叠加形成,所述Ta(Al\Si)C层是由Al和/或Si掺杂TaC形成的,所述Ta(Al\Si)C层具有面心立方晶体结构,所述Ta层具有体心立方结构。本发明制备的钽基抗腐蚀防护复合涂层有典型的面心立方结构,且所述Ta(Al\Si)C层的晶粒尺寸在10nm以下,Ta层具有体心立方结构,复合涂层同时表现出较好的热稳定性和抗氧化性能;本发明通过简单的磁控溅射方法,在较低温度下沉积得到结晶性非常好且表现出优异的钽基抗腐蚀防护复合涂层,在海洋腐蚀防护领域有潜在的应用前景。

    一种钽基抗腐蚀防护复合涂层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN111647862A

    公开(公告)日:2020-09-11

    申请号:CN202010600436.X

    申请日:2020-06-28

    Abstract: 本发明公开了一种钽基抗腐蚀防护复合涂层及其制备方法与应用。所述制备方法包括:所述复合涂层主要由Ta层和Ta(Al\Si)C层交替叠加形成,所述Ta(Al\Si)C层是由Al和/或Si掺杂TaC形成的,所述Ta(Al\Si)C层具有面心立方晶体结构,所述Ta层具有体心立方结构。本发明制备的钽基抗腐蚀防护复合涂层有典型的面心立方结构,且所述Ta(Al\Si)C层的晶粒尺寸在10nm以下,Ta层具有体心立方结构,复合涂层同时表现出较好的热稳定性和抗氧化性能;本发明通过简单的磁控溅射方法,在较低温度下沉积得到结晶性非常好且表现出优异的钽基抗腐蚀防护复合涂层,在海洋腐蚀防护领域有潜在的应用前景。

    一种TaN涂层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN110607500A

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201910948918.1

    申请日:2019-10-08

    Abstract: 本发明公开了一种TaN涂层及其制备方法与应用。所述TaN涂层的制备方法包括:采用磁控溅射技术,以Ta纯金属靶为靶材,以氮气及保护性气体为工作气体,对基体施加负偏压,对Ta纯金属靶施加靶电率,在所述基体表面沉积形成TaN涂层,所述TaN涂层具有以(200)为择优取向的面心立方晶体结构、以(111)为择优取向的面心立方晶体结构或非晶结构。本发明从沉积过程中的氮含量入手,结合TaN涂层的多种结构的特性,采用磁控溅射法并调控氮气流量占比可以得到不同结构的TaN涂层;并且制备得到的TaN涂层具有较高的硬度,在800℃以下成分性能保持稳定,有较好的抗氧化性能,在南海高温防护领域有潜在的应用前景。

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