一种低色散波段的硅基材料薄膜的折射率大幅调控方法

    公开(公告)号:CN117802465A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311834560.2

    申请日:2023-12-28

    Abstract: 本发明公开一种低色散波段的硅基材料薄膜的折射率大幅调控方法,包括步骤:步骤1,对衬底进行超声清洗活化;步骤2,选取硅靶及金属靶作为共溅射靶材对衬底共溅射,得到高折射率的硅基材料薄膜;步骤3,将所述高折射率硅基薄膜置于金属刻蚀液中刻蚀,制备低折射率的硅基材料薄膜,通过步骤2和步骤3,实现硅基材料薄膜的折射率在1.8~8之间任意调控。本发明通过将硅作为基质,通过金属靶材共溅射引入金属,刻蚀液刻蚀引入空气孔隙,有效地提高或降低了硅基材料的等效折射率,可调控范围大幅度增大,且调控精准率高。且基于其宽谱低色散,低吸收的特性,进一步扩大了红外透明材料的折射率调控范围。

    一种抗氧化的耐高温吸热涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN117966095A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410075797.5

    申请日:2024-01-18

    Abstract: 本发明公开一种抗氧化的耐高温吸热涂层及其制备方法,该涂层包括衬底、红外反射层、扩散阻挡层、金属陶瓷层和减反层;所述红外反射层为金属W;所述扩散阻挡层为SiO2或Al2O3;所述第一金属陶瓷层和第二金属陶瓷层为WZr或WHf的双金属合金纳米粒子和陶瓷基体的复合材料,所述陶瓷基体为SiZrO、SiHfO、AlZrO、AlHfO中任一种;所述减反层为SiZrO、SiHfO、AlZrO、AlHfO一种或多种材料。本发明通过微合金化和改性氧化物非晶网络结构的协同策略,配合优异阻氧能力的非晶氧化物作为减反层,得到兼具优异光学性能、抗氧化能力和高温稳定性的吸热涂层,能够长期服役于高温低真空的极端环境。

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