金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN116254505B

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310547153.7

    申请日:2023-05-16

    Abstract: 本发明公开了一种金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用。所述宽温域润滑多层复合薄膜包括:依次形成于基体表面的Mo过渡层、MoN过渡层及交替叠加层,其中,所述交替叠加层为金属元素掺杂的MoN/MoS2层,所述金属元素掺杂的MoN/MoS2层由金属元素掺杂的MoN层和金属元素掺杂的MoS2层交替叠加形成,且远离MoN过渡层一侧的是金属元素掺杂的MoS2层。本发明提供的宽温域润滑多层复合薄膜在宽温域范围内具有良好的低摩擦学性能,能够满足一些特殊零部件从室温至高温环境中的润滑需求。

    金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN116254505A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310547153.7

    申请日:2023-05-16

    Abstract: 本发明公开了一种金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用。所述宽温域润滑多层复合薄膜包括:依次形成于基体表面的Mo过渡层、MoN过渡层及交替叠加层,其中,所述交替叠加层为金属元素掺杂的MoN/MoS2层,所述金属元素掺杂的MoN/MoS2层由金属元素掺杂的MoN层和金属元素掺杂的MoS2层交替叠加形成,且远离MoN过渡层一侧的是金属元素掺杂的MoS2层。本发明提供的宽温域润滑多层复合薄膜在宽温域范围内具有良好的低摩擦学性能,能够满足一些特殊零部件从室温至高温环境中的润滑需求。

    一种硫化二硫化钼/铜复合薄膜、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN114574826A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202210197272.X

    申请日:2022-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种硫化二硫化钼/铜复合薄膜、其制备方法及应用。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/铜/二硫化钼梯度过渡层和二硫化钼/铜掺杂层,获得二硫化钼/铜复合薄膜,之后进行硫化处理,制得硫化二硫化钼/铜复合薄膜。本发明提供的硫化二硫化钼/铜复合薄膜利用二硫化钼薄膜低摩擦特性的同时,采用二硫化钼和铜共溅射形成有效掺杂,提高了薄膜的摩擦学性能,并且二硫化钼和硫化铜的低摩擦磨损具有协同作用,有利于提高硫化二硫化钼/铜复合薄膜的耐磨性,具有优越的大气磨损性能,磨损率降低了一个数量级,能够满足各种机械部件的低磨损服役要求。

    具有异质界面耦合的超润滑复合涂层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN119465048A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202311002458.6

    申请日:2023-08-09

    Abstract: 本发明公开了一种具有异质界面耦合的超润滑复合涂层及其制备方法与应用。所述超润滑复合涂层包括依次形成于基体表面的钛过渡层、钛/二硫化钼梯度过渡层及铜锡硫/二硫化钼层;其中,所述铜锡硫/二硫化钼层是由铜‑锡掺杂的二硫化钼层经高温固相处理获得,并包含Cu2SnS3相、Cu4SnS4相及(002)晶面择优的层状MoS2。本发明提供的超润滑复合涂层在真空环境下具有良好的摩擦磨损性能,摩擦系数可低至0.005,并能持续稳定运行,能够很好的满足航空航天飞行器超低摩擦及润滑稳定的服役要求。

    一种二硫化钼掺银的硫化薄膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN112210753B

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202011125570.5

    申请日:2020-10-20

    Abstract: 本发明公开了一种二硫化钼掺银的硫化薄膜及其制备方法与应用。所述二硫化钼掺银的硫化薄膜包括在其厚度方向上依次层叠的钛过渡层、钛/银/二硫化钼多层梯度过渡层和二硫化钼/银掺杂硫化层。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/银/二硫化钼多层梯度过渡层和二硫化钼/银掺杂硫化层,之后在真空惰性气氛中,对所获复合薄膜进行高温硫化处理,获得所述二硫化钼掺银的硫化薄膜。本发明的高温硫气氛退火处理的二硫化钼银复合薄膜在真空和大气环境下均具有良好的摩擦磨损性能,大气环境下薄膜的润滑性能得到进一步改善,能满足航空航天飞行器润滑稳定及长寿命服役要求。

    一种二硫化钼掺银的硫化薄膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN112210753A

    公开(公告)日:2021-01-12

    申请号:CN202011125570.5

    申请日:2020-10-20

    Abstract: 本发明公开了一种二硫化钼掺银的硫化薄膜及其制备方法与应用。所述二硫化钼掺银的硫化薄膜包括在其厚度方向上依次层叠的钛过渡层、钛/银/二硫化钼多层梯度过渡层和二硫化钼/银掺杂硫化层。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/银/二硫化钼多层梯度过渡层和二硫化钼/银掺杂硫化层,之后在真空惰性气氛中,对所获复合薄膜进行高温硫化处理,获得所述二硫化钼掺银的硫化薄膜。本发明的高温硫气氛退火处理的二硫化钼银复合薄膜在真空和大气环境下均具有良好的摩擦磨损性能,大气环境下薄膜的润滑性能得到进一步改善,能满足航空航天飞行器润滑稳定及长寿命服役要求。

    一种耐辐照低摩擦的复合薄膜及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN118932280A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202411112354.5

    申请日:2024-08-13

    Abstract: 本发明公开了一种耐辐照低摩擦的复合薄膜及其制备方法与应用。所述复合薄膜包括依次形成于基底表面的钛过渡层、钛/锌/二硫化钼/碳化钨梯度过渡层及锌/二硫化钼/碳化钨层;其中,在沿逐渐远离所述基底的方向上,所述钛/锌/二硫化钼/碳化钨梯度过渡层中钛的含量逐渐减小,锌的含量逐渐增大,二硫化钼的含量逐渐增大,碳化钨的含量逐渐增大。本发明的复合薄膜具有优异的耐辐照性能和摩擦学性能,在6.12×1021atoms·cm‑2的原子氧辐照剂量下薄膜的真空摩擦系数远低于0.01,可以满足航天器在近地轨道原子氧环境的服役要求,为二硫化钼基薄膜的制备工艺提供科学依据和理论支撑。

    一种硫化二硫化钼/铜复合薄膜、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN114574826B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202210197272.X

    申请日:2022-03-02

    Abstract: 本发明公开了一种硫化二硫化钼/铜复合薄膜、其制备方法及应用。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/铜/二硫化钼梯度过渡层和二硫化钼/铜掺杂层,获得二硫化钼/铜复合薄膜,之后进行硫化处理,制得硫化二硫化钼/铜复合薄膜。本发明提供的硫化二硫化钼/铜复合薄膜利用二硫化钼薄膜低摩擦特性的同时,采用二硫化钼和铜共溅射形成有效掺杂,提高了薄膜的摩擦学性能,并且二硫化钼和硫化铜的低摩擦磨损具有协同作用,有利于提高硫化二硫化钼/铜复合薄膜的耐磨性,具有优越的大气磨损性能,磨损率降低了一个数量级,能够满足各种机械部件的低磨损服役要求。

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