一种半导体激光器相干阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN112242643B

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202011114799.9

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 本公开提供了一种半导体激光器相干阵列,其特征在于,包括:多模干涉区,包括多级一分二的多模干涉耦合结构及多个弯曲波导,不同级之间的多模干涉耦合结构通过弯曲波导连接,其中,多级一分二的多模干涉耦合结构用于产生多个相位相干的光支路;反射区,用于将多个光支路进行传输,并通过反射率的调节控制光支路输出的能量比率;阵列区,包括多个通道波导,用于对反射区输出的多个光支路进行功率放大后输出。本公开还提供了一种半导体激光器相干阵列的制备方法。

    一种多波长的半导体激光器结构及制备方法

    公开(公告)号:CN112310808A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN202011184341.0

    申请日:2020-10-29

    Abstract: 本发明提供一种多波长的半导体激光器结构及制备方法,包括:衬底、传输层、电极,其中传输层蚀刻有环形谐振腔、法布里‑珀罗谐振腔和多模干涉区,环形谐振腔和法布里‑珀罗谐振腔相邻,并在相邻位置通过多模干涉区连接;环形跑道腔用于形成第一纵模间距的光,法布里‑珀罗直波导腔用于形成第二纵模间距的光,多模干涉区用于对第一纵模间距的光及第二纵模间距的光进行耦合,形成特定纵模间距的多波长光,并通过法布里‑珀罗谐振腔的端面输出。本发明提供的半导体激光器结构出射的多波长间强度稳定,且具有比较好的光束质量,适合应用于多种大分子物质检测、差频太赫兹产生等领域。

    一种半导体激光器相干阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN112242643A

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN202011114799.9

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 本公开提供了一种半导体激光器相干阵列,其特征在于,包括:多模干涉区,包括多级一分二的多模干涉耦合结构及多个弯曲波导,不同级之间的多模干涉耦合结构通过弯曲波导连接,其中,多级一分二的多模干涉耦合结构用于产生多个相位相干的光支路;反射区,用于将多个光支路进行传输,并通过反射率的调节控制光支路输出的能量比率;阵列区,包括多个通道波导,用于对反射区输出的多个光支路进行功率放大后输出。本公开还提供了一种半导体激光器相干阵列的制备方法。

    一种多波长的半导体激光器结构及制备方法

    公开(公告)号:CN112310808B

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202011184341.0

    申请日:2020-10-29

    Abstract: 本发明提供一种多波长的半导体激光器结构及制备方法,包括:衬底、传输层、电极,其中传输层蚀刻有环形谐振腔、法布里‑珀罗谐振腔和多模干涉区,环形谐振腔和法布里‑珀罗谐振腔相邻,并在相邻位置通过多模干涉区连接;环形跑道腔用于形成第一纵模间距的光,法布里‑珀罗直波导腔用于形成第二纵模间距的光,多模干涉区用于对第一纵模间距的光及第二纵模间距的光进行耦合,形成特定纵模间距的多波长光,并通过法布里‑珀罗谐振腔的端面输出。本发明提供的半导体激光器结构出射的多波长间强度稳定,且具有比较好的光束质量,适合应用于多种大分子物质检测、差频太赫兹产生等领域。

Patent Agency Ranking