一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器及制备方法

    公开(公告)号:CN109950359A

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201910246130.6

    申请日:2019-03-29

    Abstract: 本发明公开了一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器及制备方法。器件结构衬底自下而上依次为氧化物层、纳米半导体层、源电极,漏电极分别在纳米半导体层两侧,纳米半导体层其余部分被钝化介质层覆盖。器件制备步骤是将用CVD方法生长出的超薄硫化镉纳米带转移到具有氧化物层的硅衬底上,利用电子束曝光和热蒸发等工艺制作源、漏电极,然后再利用电子束曝光和原子层沉积等工艺制作二氧化铪钝化介质层,制备成低维纳米光电探测器。该探测器具有高灵敏、暗电流小、稳定性好、低功耗及宽光谱探测等特点。

    一种低对称性层状材料Te的可控制备方法

    公开(公告)号:CN113279058B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202110392272.0

    申请日:2021-04-13

    Abstract: 本发明公开了一种低对称性层状材料Te的可控制备方法。该方法利用简单廉价的化学气相沉积,可控的生长六边形、五边形、四边形等不同形貌的Te纳米片和Te纳米线。可控生长的过程是利用单温区的管式炉,SnTe2粉末作为反应源料,放置炉子炉子中间,衬底硅片放置于炉子的末端。使用机械泵抽取真空,气路中的压强达到0.5Pa,通入氮气,压强升到1000Pa。打开管式炉的电源开关,加热到650℃,反应30min,关闭电源。冷却室温后,在硅片上生长出Te纳米线和不同形貌Te纳米片,扫描电子显微镜和原子力显微镜表征Te纳米材料。本发明的优点在于低成本、高效率、准确可控地制备高质量、不同纳米形貌的低对称性层状材料Te。

    一种低对称性层状材料Te的可控制备方法

    公开(公告)号:CN113279058A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202110392272.0

    申请日:2021-04-13

    Abstract: 本发明公开了一种低对称性层状材料Te的可控制备方法。该方法利用简单廉价的化学气相沉积,可控的生长六边形、五边形、四边形等不同形貌的Te纳米片和Te纳米线。可控生长的过程是利用单温区的管式炉,SnTe2粉末作为反应源料,放置炉子炉子中间,衬底硅片放置于炉子的末端。使用机械泵抽取真空,气路中的压强达到0.5Pa,通入氮气,压强升到1000Pa。打开管式炉的电源开关,加热到650℃,反应30min,关闭电源。冷却室温后,在硅片上生长出Te纳米线和不同形貌Te纳米片,扫描电子显微镜和原子力显微镜表征Te纳米材料。本发明的优点在于低成本、高效率、准确可控地制备高质量、不同纳米形貌的低对称性层状材料Te。

    一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器

    公开(公告)号:CN209691770U

    公开(公告)日:2019-11-26

    申请号:CN201920414457.5

    申请日:2019-03-29

    Abstract: 本专利公开了一种利用二氧化铪钝化增强型低维纳米探测器,器件结构衬底自下而上依次为氧化物层、纳米半导体层、源电极,漏电极分别在纳米半导体层两侧,纳米半导体层其余部分被钝化介质层覆盖。器件制备步骤是将用CVD方法生长出的超薄硫化镉纳米带转移到具有氧化物层的硅衬底上,利用电子束曝光和热蒸发等工艺制作源、漏电极,然后再利用电子束曝光和原子层沉积等工艺制作二氧化铪钝化介质层,制备成低维纳米光电探测器。该探测器具有高灵敏、暗电流小、稳定性好、低功耗及宽光谱探测等特点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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