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公开(公告)号:CN106299113A
公开(公告)日:2017-01-04
申请号:CN201610703472.2
申请日:2016-08-22
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
CPC classification number: H01L45/06 , H01L45/143 , H01L45/144 , H01L45/1608
Abstract: 本发明提供一种Ge-Sb-Se相变材料、相变存储器单元及其制备方法,Ge-Sb-Se相变材料为包括锗、锑、硒三种元素的相变材料,Ge-Sb-Se相变材料的化学式为GexSbySez,其中,20≤x≤50,30≤y≤70,5≤z≤25,且x+y+z=100。本发明提供的Ge-Sb-Se系列相变材料可以通过调节三种元素的含量得到不同结晶温度、电阻率和结晶激活能的存储材料,且该体系相变材料相变前后电阻差值大,具有非常强的可调性,从而根据实际所需提供特定的性能。本发明所述的Ge-Sb-Se相变薄膜材料,与传统的Ge2Sb2Te5相比,具有更好的热稳定性,更强的数据保持力,更快的结晶速度;本发明提供的相变存储材料的制备方法,工艺简单,便于精确控制材料成分。
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公开(公告)号:CN109545964B
公开(公告)日:2021-03-19
申请号:CN201811535870.3
申请日:2018-12-14
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明提供一种基于氧化物离子注入的选通材料、选通器单元及其制备方法,所述选通材料的化学通式为MxOyAsz,其中,M是包括但不限于Hf、Ti、Ta或Zr中的任意一种元素,x、y、z均指元素的原子百分比,且满足x+y+z=100,同时20
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公开(公告)号:CN109545964A
公开(公告)日:2019-03-29
申请号:CN201811535870.3
申请日:2018-12-14
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明提供一种基于氧化物离子注入的选通材料、选通器单元及其制备方法,所述选通材料的化学通式为MxOyAsz,其中,M是包括但不限于Hf、Ti、Ta或Zr中的任意一种元素,x、y、z均指元素的原子百分比,且满足x+y+z=100,同时20
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公开(公告)号:CN108110135A
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201711213604.4
申请日:2017-11-28
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明提供一种Al‑Sb‑Ge相变材料、相变存储器单元及其制备方法,所述Al‑Sb‑Ge相变材料包括铝、锑、锗三种元素,其化学式为AlxSbyGez,其中,15≤x≤25,50≤y≤60,20≤z≤35,且x+y+z=100。该相变材料可通过磁控溅射的方法进行制备,通过调节溅射靶材的电流功率来调节Al‑Sb‑Ge系列体系中的三种元素的含量,得到不同结晶温度、电阻率和结晶激活能的存储材料。本发明所述的Al‑Sb‑Ge相变薄膜材料,与传统的Ge2Sb2Te5相比,具有更好的热稳定性,更强的数据保持力,更快的结晶速度;本发明提供的相变存储材料的制备方法,工艺简单,便于精确控制材料成分;本发明提供相变存储材料应用到相变存储器中,使得相变存储器具有数据保持力强、擦写速度快,电学性能稳定等优点。
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公开(公告)号:CN111326651A
公开(公告)日:2020-06-23
申请号:CN201811543070.6
申请日:2018-12-17
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明提供一种OTS材料、选通器单元及其制备方法,所述OTS材料为包括Ge、As、Se、Te、Si和P六种元素的化合物,所述OTS材料的化学通式为GeaAsbSecTexSiyPz,其中a、b、c、x、y、z均指元素的原子百分比,且5
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公开(公告)号:CN108899417A
公开(公告)日:2018-11-27
申请号:CN201810704531.7
申请日:2018-07-02
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
CPC classification number: H01L45/144 , H01L45/04 , H01L45/16
Abstract: 本发明提供一种Ta-Sb-Te相变材料、相变存储器单元及其制备方法,所述Ta-Sb-Te相变材料包括钽、锑、碲三种元素,所述Ta-Sb-Te相变材料的化学式为TaxSbyTez,其中,3≤x≤15,50≤y≤70,25≤z≤35,且x+y+z=100。该相变材料可通过磁控溅射的方法进行制备,通过调节溅射靶材的电流功率来调节Ta-Sb-Te系列体系中的三种元素的含量,得到具有不同结晶温度、熔点和结晶激活能的存储材料。本发明所述的Ta-Sb-Te相变薄膜材料,与传统的Ge2Sb2Te5相比,具有更好的热稳定性,更强的数据保持力以及更快的结晶速度;本发明提供的相变存储材料的制备方法,工艺简单,便于精确控制材料成分;本发明提供相变存储材料应用到相变存储器中,使得相变存储器具有数据保持力强、擦写速度快,电学性能稳定等优点。
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