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公开(公告)号：CN100422070C
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200510028753.4
申请日：2005-08-12
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种由硅和二氧化硅共同支撑的可移动微结构及其制备方法。针对微观下静电驱动力小的问题，采用硅梁和二氧化硅膜作为共同支撑部件，共同支撑中间可动部件。既增加了支撑强度又提高了静电力驱动下的位移；针对用梁支撑的可动结构在后续工艺中粘上杂质和被腐蚀液破坏的问题，采用二氧化硅膜作保护，使结构在后续工艺中不被污染破坏，增加了提高器件制作工艺的可选择性。其制备方法是通过硅片上制作出图形，键合到衬底上，然后从背面减薄硅片上。
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公开(公告)号：CN1736850A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510028753.4
申请日：2005-08-12
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种由硅和二氧化硅共同支撑的可移动微结构及其制备方法。针对微观下静电驱动力小的问题，采用硅梁和二氧化硅膜作为共同支撑部件，共同支撑中间可动部件。既增加了支撑强度又提高了静电力驱动下的位移；针对用梁支撑的可动结构在后续工艺中粘上杂质和被腐蚀液破坏的问题，采用二氧化硅膜作保护，使结构在后续工艺中不被污染破坏，增加了提高器件制作工艺的可选择性。其制备方法是通过硅片上制作出图形，键合到衬底上，然后从背面减薄硅片上。
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公开(公告)号：CN1693931A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510026059.9
申请日：2005-05-20
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种玻璃基硅光波导材料的制备方法。该材料是以玻璃为衬底，硅为导波层。其制备方法为：将绝缘体上的硅材料(SOI)的顶层硅和玻璃片的抛光面常规清洗、烘干后进行键合，键合后利用自停止效应去除SOI硅片的底层硅。该材料和制作工艺的优点是：所制得的光波导材料的导波层厚度可以从几十纳米到几微米，而且厚度均匀性高；玻璃作为限制层，限制效果好；键合面在键合之前可以通过各种工艺过程来实现设定的图案、电极等。
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